晶体硅太阳能电池生产线刻蚀工序精选.ppt

confidential confidential 晶体硅太阳能电池生产线 刻蚀工序培训 王大男 光伏电池评测中心 目录 1、刻蚀的作用及方法； 2、刻蚀的工艺设备、操作流程及常用化学品； 3、主要检测项目及标准； 4、常见问题及解决方法； 5、未来工艺的发展方向； 1、刻蚀的作用及方法 太阳电池生产流程： 清洗制绒 扩散 去PSG 印刷 刻蚀 PECVD 硅片 烧结 电池 电池生产线 硅片生产线 组件生产线 刻蚀作为太阳电池生产中的第三道工序，其主要作用是去除扩散后硅片四周的N型硅，防止漏电。 扩散后硅片P的分布 去PSG顾名思义，其作用是去掉扩散前的磷硅玻璃。反应方程式如下： SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O 刻蚀制作方法： 目前，晶体硅太阳电池一般采用干法和湿法两种刻蚀方法。 1、刻蚀的作用及方法 1）干法刻蚀原理 干法刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性生成物而被去除。它的优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌 （这是各向同性反应） 。 2）湿法刻蚀原理 3Si+4HNO3 →3SiO2+4NO+2H2O SiO2+4HF→SiF4+2H2O SiF4 +2HF→H2SiF6