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2017-01-10 发布于湖南
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erstellungeines berichtes,einer studien-oder diplomarbeit（erstellungeines berichtes，一个学习或diplomarbeit）

Fabrication and study of ITO thin films prepared by magnetron sputtering Dissertation zur Erlangung des Grades Doktor der Naturwissenschaften(Dr. rer. nat.),vorgelegt am Fachbereich Physik der Universit?t Duisburg-Essen von Zhaohui QiaoausHebei, V. R. China Erstgutachter: Prof. Dr. D. MergelZweitgutachter: Prof. Dr. V. BuckTag der mündlichen Prüfung: 08 Mai 2003 Content 1 Introduction 1 2 Background Theory and Literature Review 3 2.1 Introduction to ITO Films 3 2.2 Crystal Structure 3 2.3 Electrical Properties of ITO Films 4 2.3.1 Free Carrier Density 5 2.3.2 Free Carrier Mobility 7 2.4 Optical Properties 9 2.4.1 Optical Constants 9 2.4.2 Band Structure 10 2.5 Deposition Techniques of ITO 12 2.5.1 Thermal Evaporation 12 2.5.2 Spray Hydrolysis (Pyrolysis) 13 2.5.3 Chemical Vapor Deposition 14 2.5.4 Sputtering 15 2.6 Effects of Deposition Parameters on the Properties of ITO Films for Sputter Techniques 21 2.6.1 Substrate Temperature 21 2.6.2 Oxygen Partial Pressure 22 2.6.3 Target-Substrate Distance 23 2.6.4 Total Pressure 25 2.6.5 Sputtering Power 26 2.6.6 Post-Annealing 27 2.6.7 Structure Zone Models 28 3 Preparation of ITO Thin Films 30 3.1 Deposition Equipment 30 3.1.1 Process Chamber 31 3.1.2 Vacuum System 31 3.1.3 DC-Sputtering System 31 3.1.4 RF-Sputtering System 32 3.2 Experiment Method and Procedures 34 3.3 Substrate Temperature 34 4 Characterization of ITO Films 36 4.1 Measurement of the Mass of the Films 36 4.2 Determination of the Film Thickness 37 4.2.1 Stylus Method-Profilometer 37 4.2.2 Optical Spectrum Simulation 38 4.3 Measurement of Transmittance and Reflectance Spectra 39 4.3.1 Principle 39 4.3.2 The Approach to the Spectra Measurement 39 4.3.3 Measuring Results 42 4.4 Determining the Structure of ITO Films by X-ray Diffraction 43 4.4.1 Information Obtained from the X-ray Diffractogram 43 4.4.2 Evaluating X-ray Diffractograms by Computer Program 45 4.5 Determining the Electrical Resistivity of the Films 46 4.6 Measuring