文件变更履历表.doc

機台名稱： 機台編號： CF-S04 制訂部門： 奈米元件廠 制訂日期： 2006/08/15 文 件 制 修 訂 記 錄 NO 發行日期 修訂SOP書編號 制修訂內容 修訂頁次 版本 01 2006//01 制定初版 01 02 96-DC10 文件名稱異動 全部 1.2 03 2008/10/29 97-DC30 文件內容 P.3 1.3 04 2009/03/01 98-DC01 制訂部門名稱異動 P.0 1.4 05 2010/12/01 99-DC21 文件內容 P.1~2 02 06 07 08 核 准 審 查 制 訂 一、 目 的： 定義速操作規範，以確保操作品質。 二、 範 圍： 適用於。 三、 權 責： 1. 組織權責：工程師負責制定及修改規範。 2. 執行人員資格：經過考核通過之人員。 四、 名詞定義： 無。 五、 相關文件： MANUAL。 六、標準作業程序： 確定機台狀況是否正常 確定機台狀況為運轉中（綠牌） 。 檢查使用記錄簿，確定上一位使用者使用狀況是否正常。 打開氣體 檢查氣體開關。 檢查冷卻水位。 刷卡進入系統 刷卡後，螢幕電源開啟，並出現主畫面。 設定製程參數 點選主畫面中的“C reator edit Recipe”，進入製程參數設定畫面。 “Recipe” 分為溫度曲線參數設定與溫度控制設定兩部分。 本機台允許製程溫度為400~100 ℃ ，℃持溫時間少於3分鐘；然而00 ℃以上，持溫時間不高於1分鐘。若有特殊製程請先與工程師聯絡。 升溫速率限制1~200 (℃/sec) ，然而低於50 (℃/sec) 、高於150 (℃/sec)，機台不易達成。 按“F9”中的edit screen，進入溫度控制設定畫面。有正確的溫度控制參數，才能得到好的溫度曲線。 主要溫度控制參數的意義: T-SW: 溫度曲線由升溫進入穩定狀態的起始溫度稱為轉換溫度，其與穩定態溫度之差值即為T-SW。 Gain, DGain: 增益值，大小為0 ~ -500 ，藉由調整值大小可得到較佳的溫度曲線。 I-Warm: 滷素燈強度，經過升溫製程後，電腦所取得達穩定態的最佳強度值。 I-Cold:滷素燈強度，第一次升溫製程時，操作者需給的穩定態強度值。 以下為常見的溫度曲線，以及最佳化的參數調整方式 Overshoot : T-SW ↑ ?Gain ↑ ?DGain ↑ ?I-Cold ↓ Undershoot : T-SW ↓ ?Gain ↓ ?DGain ↓ ?I-Cold ↑ Oscillation : Gain ↑ ?DGain ↑ Second undershoot : Gain ↓ ?I-Cold ↓ 按F1顯示recipe data screen 按W選擇wafer size 按F設frequency為 60 按M回 main menu 置入試片 打開門拴。 把拉出，再將試片放在石英架上。 推入門把，鎖上門拴。 注意事項： 石英架十分脆弱，放置試片務必小心。 目前只有矽晶片基板允許放入。 試片放入時需先經過清洗。 除核准金屬材料餘禁止放入本機台。 若有特殊基板與製程，請先詢問設備工程師。 開始熱處理製程 在主畫面點選“execute recipe”，按Run則開始執行程式。 若遇到緊急狀況，則按任何一鍵終止程式的執行。 升溫時，操作者一定要注意機台狀況，以避免意外發生。 結束製程 程式執行完。 按“10”回 main menu畫面 取出試片 關機 確定所有閥門均恢復正常狀態 關閉冷卻氣體。 確定是否門拴鎖上。 刷卡登出。填寫使用記錄簿。 七、應用表單及附件： 設備考核表S4-NL01A 設備點檢表S4-NL01B 設備使用記錄表S4-NL0異常及矯正預防處理單S4-NL02A 儀器設備管理卡S4-NL04B 國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室National Nano Device Laboratories 文件編號 DOCUMENT NO. 總 頁 數 TOTAL PAGE 共 3 頁 文件名稱 TITLE TrueLight 文件名稱： 文件編號： 制訂單位： 版 本： 制訂日期： 修訂日期： 頁 次： 第 1 頁，共 4 頁 ** 本文件為光環科技股份有限公司專有之財產；未經書面許可，不准對外公開、不准複製私自保存、亦不准轉變為其它任何形式使用。** 國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室National Nano Device Laboratories DOCUMENT