2011级数字集成电路重点不完全.docxVIP

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2011级数字集成电路重点不完全

注意,这只是根据老师的重点在PPT上找的,有的没有找到用黄色背景画出了,不全面,只是做个参考。。 1、数字设计面临的挑战 微观问题(Microscopic Problems) ?? 超高速设计(Ultra-high speed design) ?? 互连(Interconnect) ?? 噪声、串扰(Noise, Cross-talk) ?? 可靠性和可制造性(Reliability, Manufacturability) ?? 功耗(Power Dissipation) ?? 时钟分布(Clock distribution)… 宏观问题( Macroscopic Issues) ?? 产品面市时间(Time-to-Market) ?? 集成规模(Millions of Gates) ?? 高层次抽象设计(High-Level Abstractions) ?? IP复用:可移植性(Reuse IP: Portability) ?? 可预测性(Predictability)… 2、如何评估数字电路的性能 a)成本(Cost) b)可靠性(Reliability) c) 可量测性(Scalability) d)速度(如delay, operating frequency) e) 功耗(Power dissipation) f) 执行一项功能需要的能量(Energy to perform a function) 3、光刻过程 氧化→涂光刻胶→光刻机曝光→光刻胶显影→酸刻蚀→清洗、干燥→工艺步骤→光刻胶去除 4、工艺步骤 扩散和离子注、淀积、刻蚀、平面化(化学机械抛光) 流程:定义有源区,刻蚀、绝缘沟槽中填充氧化物→阱区离子注入→淀积、形成多晶硅层→源、漏区及衬底接触的离子注入→形成接触孔和通孔、淀积形成金属层图形 5、pn结二极管简化模型 6、pn结内建电势 其中 ΦT为热电势,ΦT=kT/q ,300K(常温)时为26mV NA、ND为掺杂浓度 ni为本征载流子浓度,PPT上例题为1.5×1010 7、二极管电流与电压关系 理想情况: 简化模型: 其中VDon约为0.6~0.8V,PPT中例题为0.7V 8、反相器的电路图 9、输入为高低电平时的输出(VOH、VOL分别为高电平、低电平) 有比反相器 如电阻负载反相器 无比反相器 如CMOS反相器 10、CMOS反相器的特点 输出高电平和低电平分别为VDD和GND。信号电压摆幅等 于电源电压,噪声容限很大。 无比逻辑。逻辑电平与器件尺寸无关,晶体管可以采用最 小尺寸。 具有低输出阻抗。稳态时在输出和VDD或GND之间总存在 一条具有有限电阻的通路,对噪声和干扰不敏感。 输入电阻极高,不消耗直流输入电流。 没有静态功耗。稳态工作情况下,电源和地之间没有直接 的通路。 11、电压传输特性(VTC) VIH、VIL分别为输入为高、低电平的极限,是dVout/dVin=-1的时候的Vin VM为门限电压,是Vout=Vin的时候 电阻负载反相器(有比反相器) CMOS反相器(无比反相器) 12、互补CMOS构造 互补逻辑门由PUN(上拉网络)和PDN(下拉网络)组合而成, PUN 和PDN 是对偶逻辑网络。 13、PUN和PDN构造的经验规则: ?? 晶体管看作是由其栅端信号控制的开关。 ?? PDN用NMOS器件,PUN用PMOS器件。 ?? 推导构造逻辑功能的规则:NMOS串联对应与(AND)功能,NMOS并联对应或(OR)功能。 ?? 根据Morgan定理,PUN和PDN是对偶网络。构造CMOS门,一个网络(如PDN)用串并联器件的组合实现,另一个网络可根据对偶性原理得到。 ?? 互补门自然求反功能。单级只能实现NAND,NOR和XNOR等,非反相布尔函数需要额外的反相器。 ?? 实现N输入的逻辑门需要晶体管数目为2N。 14、MOS管的串/并连实现的逻辑功能 NMOS 为高电平时,NMOS开关闭合(导通),NMOS 传输“强” 0 和“弱” 1 NMOS串联实现“与”逻辑 NMOS并联实现“或”逻辑 PMOS 为低电平时,PMOS开关闭合(导通),PMOS 传输“强” 1 和“弱” 0 PMOS串联实现“或非”逻辑 PMOS并联实现“与非”逻辑 15、根据逻辑关系构造符合CMOS逻辑门 例如: 据NMOS管的串并联规则推导出PDN(PUN:乘*是mos管并联,反正加+是串联) 注意NMOS构成的是F = D + A? (B + C),使PDN导通时传递低电平”0” 图为

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