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極限エネルギー密度工学研究センター　利用装置一覧 使用装置について 極限センター内に設置されている主要装置を列挙します 他の部屋に置いてあるものや、共通施設もあります） 以下の装置を駆使して研究活動を遂行しています。徐々に写真、スペックを記載する予定です。共同利用していただける装置もございますので、ご連絡下さい。 材料合成装置 ■ナノ粒子?薄膜合成関連 装置名?メーカー?型番仕様写真用途レーザーアブレーション成膜チャンバー 【自作】YAG、エキシマレーザー蛍光体薄膜や硬質薄膜などの薄膜を、化学的組成ズレなく成膜する。液中レーザーアブレーションシステム 【自作】YAGレーザー細線放電式ナノ粒子合成装置 【自作】連続式細線放電ナノ粒子合成装置スターバーストミニ スギノマシン(株)製 HJP-25001最小処理量20cc 最高圧力245MPa モーター容量2.2kW超高圧（245MPa）に加圧した原料（スラリー、乳化液、医薬品等）を超高速（700m/s）で噴射?衝突させることで、乳化?分散?表面改質処理を行う湿式微粒化装置です。コンタミレスで、少量（20cc）のサンプルが手軽に処理で出来る。/products/db/yotoprod_e.asp?seq_no=289スピンコーター ミカサ(株) MS-A100型最大100ステップまでのプログラムを、10パターンメモリー可回転する板の上にスラリーを垂らすことにより、成膜することが出来る。ディップコーター NIC-0703塗布対象物 4inchウェハー 処理速度 0.1mm/sec～10mm/sec 処理ストローク 0mm～120mm ユーティリティ 1φ100V　5Aスラリー中に基板を入れて引き抜くことで成膜するための装置/products/nic0703.html水熱合成用オートクレーブマイクロ波水熱合成装置 アクタック社 MWS-2 スピードウエイブシステムマイクロウェーブ出力 最高1000W 内蔵温度センサー 100～250℃スピードウェーブ?MWS2は、テフロン密閉容器を使用したマイクロウェーブによる加熱分解装置です。 容器の内部温度は常にセンサーによってモニターされ、最適な分解条件を保ちながら分解を進めます。 同時に10本までセットでき、容器の開閉も手で簡単に行えるため、作業効率がアップします。ソノケミストリー[超音波化学法]合成装置 KAIJO(社)25kHz, 33kHz, 60kHz, 100kHz, 200kHz超音波照射により形成されたラジカル場を用いて様々な化学反応を起こしてナノ粒子を合成する装置です。 http://www.kaijo.co.jp超音波音圧計 KAIJO(社)　19001D型周波数特性；　10kHz～5MHz 電源；　AC100V　約2VA超音波の音圧を測定します。プラズマCVD式CNT合成装置プラズマ源 石英導波管直交方式 マイクロ波出力電力 0～500W （2.45GHz±50MHz） DLC膜、カーボンナノチューブ、プラズマ殺菌、真空紫外照射、その他のプラズマ暴露実験ができるマイクロ波実験装置http://www.arios.co.jp/products/micro-expe.html大気圧プラズマ型ナノ材料合成装置 ドイツiPlas(社)製 CYRANNUS? I - 6Technical specifications: frequency: 2,45 GHz power required: 1 - 6 KW plasma shape: sphere plasma diameter: approx. 145 mm pressure range: 0 - 1000 mbar大気圧でプラズマを形成し、ナノ粒子合成、超高速CVD成膜、有機物の表面改質などが可能。/ナノ秒パルス式アトミックレーヤーデポジション装置　 (Nano pulsed ALD) 【自作】スパッタ成膜装置 アルバック SH-250-T04ターゲットサイズ：３インチφ×３式　基板温度：最高４００℃　電源：ＲＦ及びＤＣ各１基　逆スパッタリング、重畳放電及びバイアススパッタリングが可能真空中にアルゴン及び酸素ガスを導入し、直流及び高周波マグネトロンスパッタにより、精密に薄膜を作製します。ガラス、プラスチックス、金属などの基材の上に、高品質の金属膜、セラミックス膜を高速成膜します。スパッタ成膜装置 エス?エス?アロイ(株) DCスパッタ式薄膜形成装置ターゲット寸法 φ30×5t スパッタリング電流/電圧 0～300