- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
第七章-朴脘它化学合成方法3
7.2 等离子体化学;7.2.1 等离子体化学定义、发展过程与分类
等离子体化学是研究等离子体中各种粒子之间或这些粒子与电磁辐射及周围物质间相互化学作用的一门分支学科。
此名称最早出现在1967年出版的书:
Plasm chemistry in electrical discharges
;1927年朗格谬在研究水银蒸气的电离状态时最先引入plasma(等离子体)这一术语。
1929年汤克斯和朗格谬给等离子体赋予“电离气体”的涵义。;1、 按存在分类:
1) 天然等离子体。宇宙中99%的物质是以等离子 体状态存在的,如恒星星系、星云,地球附近的闪电、极光、电离层等。如太阳本身就是一个灼热的等离子体火球。
2) 人工等离子体如:
*日光灯、霓虹灯中的放电等离子体。
*等离子体炬(焊接、新材料制备、消除污染) 中的电弧放电等离子体。
*气体激光器及各种气体放电中的电离气体。;2、按系统温度分类;3、按电离度 分;Saha方程;4、按热力学平衡分类;三、普通气体和等离子体的比较;1、等离子体的温度;3、等离子体中的各种现象 ; 弹性碰撞与非弹性碰撞; 碰撞截面; 碰撞频率和平均自由程;2)激发和电离;(2)亚稳态粒子的作用;亚稳态粒子的累积电离;(4)离子碰撞电离;3)复合过程;两个电子在某个离子附近相互作用,其中一电子将能量交给另一个电子后落入离子的静电场中形成束缚电子,刚束缚的电子一般处于高能级上,再通过自发辐射或碰撞激发回到基态,即,;(4)正负离子碰撞复合
; 迁移运动与迁移率; 热致电离等离子体;7.2.3 低温等离子体的形成与放电特性;电晕放电;2、放电特性;辉光放电是低温等离子体的同义语;(2)高频辉光放电;(3)微波放电; 微波等离子体的特征;7.2.4 等离子体化学的应用;2、光刻与刻蚀;光刻与刻蚀;1、光刻的具体工艺;2、刻蚀;干法刻蚀
反应气体在等离子体条件下形成活化原子,在电场作用下定向运动与半导体材料进行化学反应,反应生成物为气体被排出,达到定向刻蚀的目的
通常有RIE(反应离子刻蚀),RIBE(反应离子束刻蚀),ICP(感应耦合型等离子体)等方法
干法刻蚀一般需要用光刻胶或SiO2等介质膜作为掩模
干法刻蚀的突出优点是没有侧蚀问题,而且腐蚀深度可以精确控制
;3、溅射成膜和离子镀;溅射方法:直流溅射、射频溅射、磁控溅射和反应溅射;直流溅射法的缺点:
溅射过程产生的二次电子经电场加速碰撞薄膜的表面从而损伤膜面。也造成基体表面升温,需对基体冷却。仅限于使用金属靶或电阻率在10 以下的非金属靶。制成的薄膜中含有较多的气体分子,薄膜的生长速度太慢。; 离子镀
离子镀以蒸发源为阳极,在压力的氩气中向基板施加很高的负电压,发生辉光放电。电离后的蒸发原子被静电加速射到基板上,形成优异的薄膜。从利用低温等离子体的离子、激发粒子成膜的特点来看,这方法优于普通的真空气相沉积法。;PVCD技术;Evaluation only.
Created with Aspose.Slides for .NET 3.5 Client Profile 5.2.0.0.
Copyright 2004-2011 Aspose Pty Ltd.;PCVD技术的应用; 金属表面改性; 高聚物的表面改性
??? 等离子体法可改善高聚物的亲水-疏水性、黏结性、耐热耐蚀性和抗辐射等表面特性,赋予其特殊的光—电性和生物适应性等。改性层极薄,一般为单分子膜,不会影响材料的固有性能;为低温(300℃以下)气相法干处理,适用面广、操作方便、无污染。如用氧等离子体处理,高聚物表面可生成含氧基团,改善其润湿性、黏结性和可印刷性。硅橡胶、聚四氟乙烯、聚丙烯等经处理后,黏结强度可提高5-10倍。采用氮等离子体,则可引进含氮基团,等等。; 等离子体聚合
是指有机单聚物的单种气体,或者单聚物与其他气体的混合气体感应辉光放电后,由生成的激发单体在基板上 制备聚合膜的方法。
聚合过程中的生成膜由于电子轰击作用在烷基任意位置产生基团,由基团进行支化、交联反应。普通聚合要求单体有双键的特定官能团,在高压下合成。具有高度交联的网状结构的非晶膜,无气孔,化学稳定性、耐热性非常好,可作保护膜。;一、光的波长与能量;二、光化学基本定律;三、光化学反应的特征;初级过程是分子吸收光子使电子激发,分子由基态提升到激发态,激发态分子的寿命一般较短。光化学主要与低激发态有关,激发态分子可能发生解离或与相邻的分子反应,也可能过渡到一个新的激发态上去,这些都属于初级过程(包含有激发态的过程)。
次级过程:初级过程以后发生的任何过程。
例如氧分子光解生成两个氧原子,是其初级过程;氧原子和氧分子结合为臭氧的反应则是次级过
文档评论(0)