PVD表面镀覆技术原理.pptVIP

Sapphire dial key PC片 新工艺开发及展示 工艺：Glass+color film 新工艺开发及展示 * 塑膠材料表面真空鍍膜具環保無污染且為附著力強的鍍膜，可以達到保護基材、裝飾、抗電磁波、導電或是抗反射等目的；為因應3C產業對於塑膠表面真空鍍膜技術的需求，提升產品品質與質感，將其塑膠表面金屬化。 * 電漿(Plasma)是一種遭受部份離子化的氣體(Partially lonized Gases)。藉著在兩個相對應的金屬電極板(Electrodes)上施以電壓，假如電極板間的氣體分子濃度在某一特定的區間，電極板表面因離子轟擊(Ion Bombardment)所產生的二次電子(Secondary Electrons)，在電極板所提供的電場下，將獲得足夠的能量，而與電極板間的氣體分子因撞擊而進行所謂的”解離(Dissociation)”，”離子化(Ionization)”，及”激發(Excitation)”等反應，而產生離子、原子、原子團(Radicals)，及更多的電子，以維持電漿內各粒子間的濃度平衡。 * 日常生活中的電漿1.日常生活中最常見的日光燈，就是電漿的應用！當我們開燈時，點燈器會產生極高的電壓，並產生電漿粒子，這些電漿粒子會轟擊燈管中的水銀蒸氣、螢光物質，而使其發光。五顏六色的霓虹燈也是相同原理。 2.富士通（Fujitsu）於1993年發表的電漿顯示器（Plasma Display Pannel），其基本顯像原理：由前、後二塊玻璃基板夾成，玻璃上附有透明電極、誘電層、保護層、紅綠藍三色螢光體等結構。這二塊玻璃基板中間的間隙只有0.1mm，而在這0.1mm空間中填充了一種氣體。當施加電壓於電極上時，電極會放電而產生紫外線光。而當紫外線光打擊到玻璃基板上的紅、綠、藍螢光物質時，這些螢光物質就會產生紅、綠、藍三原色，這些紅綠藍三原色最後就合成各種彩色影像。  * * * 4.射频辉光放电 5~30MHz,一般用13.56MHz。在一定的气压下，当阴阳极间所加交流电压的频率增高到射频频率时，即可产生稳定的射频辉光放电。两个重要特征： 1）在辉光放电空间产生的电子获得了足够的能量，足以产生碰撞电离； 2）电极并不需要是导体，因而可以溅射包括介质材料在内的任何材料。 5.微波等离子体辉光放电 微波（MVV）是一种无极放电，,在真空室中导入.45GHz的微波能与磁场中回旋的电子发生共振促进放电。 PVD蒸鍍法 真空蒸鍍 濺射蒸鍍 離子蒸鍍 粒子生成機構 熱能 動能 熱能 膜生成速率 可提高 快 可提高 粒子 原子、離子 原子、離子 原子、離子 蒸鍍均勻性 複雜形狀 佳 良好 良好，但膜厚分佈不均 平面 佳 優 佳 蒸鍍金屬 可 可 可 蒸鍍合金 可 可 可 蒸鍍耐熱化合物 可 可 可 粒子能量 很低0.1~0.5eV 可提高1~100eV 可提高1~100Ev 惰性氣體離子衝擊 通常不可以 可，或依形狀不可 可 表面與層間的混合 通常無 可 可 加熱（外加熱） 可 通常無 可，或無 蒸鍍速率10-9m/sec 1.67~1250 0.17~16.7 0.50~833 镀膜 镀膜方式比较 性质 沉积速率 大尺寸厚度控制 精确成份控制 可沉积材料之选用 整体制造成本 方法 蒸镀 (Evaporation) 慢 可 佳 多 佳 溅镀 (Sputtering) 佳 佳 佳 多 佳 镀膜 各种物理气相沉积法之比较 若产品为高光面，则推荐使用SPI A1或 SPI A2. 当VDI大于9时喷涂后开始出现橘皮现象，当VDI大于18时橘皮现象将非常严重。 如产品为亚光面， VDI小于27可以接受，否则会产生橘皮现象。 以上为高光产品VDI为18和21时的橘皮现象 产品设计要求 素材表面粗糙度要求 底漆须膜厚很薄，大约5um； 由于大量的灰尘藏在纹理中以及太薄的膜厚会导致喷涂良率太低； 注塑的缺陷也会更明显； 耐磨性能会很差。 刷子纹状素材 CD纹状素材 十字交叉纹状素材 产品设计要求 避免使用有纹理的素材 圆弧状轮廓产品的肥边现象会比直角状轮廓产品轻微，倒角的半径至少为0.5mm； 尖锐的表面影响产品的耐磨性能。 直角状轮廓，肥边现象比较明显 圆弧状轮廓产品，肥边现象较轻微 Troubadix C-Cover; VDI 9; 高光产品 素材 PVD膜层 倒角 不合理的设计 合理的设计 倒角 产品设计要求 产品轮廓的设计要求 为达到振动摩擦测试要求，结构设计和涂料选择上建议满足以下要求： 1、Mechanical Design ? 1）边内侧设计R0.3mm 以上，如果后处理为PVD，必须为R0.5以上； ? 2）Hig