模板法交流电沉积铜纳米线阵列及其表征.pdfVIP

垂i第11期 0基燃 VbI-33No．11 模板法交流电沉积铜纳米线阵列及其表征 张艳梅木，胡勇，黄家强，王国庆，桂烨，王大福，揭晓华，曾鹏 (广东工业大学材料与能源学院，广东广州510006) 摘要：先通过二次阳极氧化法制备多孔阳极氧化铝膜模板，再 于电子工业中，尤其是铜纳米线和纳米棒在纳米电子 采用交流电沉积法将Cu金属填入模板的纳米孔洞中得到铜纳 器件上具有很好的应用前景而备受关注。纳米线的制备 米线阵列。分别采用扫描电镜、透射电镜和x射线衍射仪对Cu 方法日新月异，目前主要包括水热法[1】、溶液生长法【2] 纳米线阵列的形貌和晶体结构进行表征。结果表明，多孔氧化 铝模板的孔洞排布致密、均匀而有序。交流电沉积所得Cu纳米 和模板法[3巧】等。其中，较为普遍使用的是以多孔氧化 线为单晶结构，直径为60～90rim，长度为0．5～4．0 gm。 铝膜为模板组装纳米线，该法具有简单、快速且线径 关键词：Cg；阳极氧化；模板；交流电沉积；铜纳米线阵列； 可控的优点【6。7J。电化学沉积技术是利用模板组装Cu 微观结构 纳米阵列的一种有效方法，分为直流沉积和交流沉积 中图分类号：TQl53．14 文献标志码：A 两种。直流电沉积的操作相对复杂、繁琐，交流电沉 文章编号：1004—227X(2014)11—0457—03 current ofcopper Alternating electrodepositiOn nanowire methodandits arraybytemplate 洞中沉积金属纳米线，是一种操作简单、成本低廉的 characterization／／ZHANG Yan—mei*，HUYong，方法[8]。本文以多孔氧化铝膜为模板，采用交流电沉积 HUANG Jia-qiang，WANGGuo—qing，GUIYe，WANG 法制备了金属铜纳米线阵列，并探讨了其沉积机理。 Da-fu，JIEXiao-hua，ZENG Peng Abstract：AanodicaluminaoxidefAA01film porous 1实验 was anodization．The templatepreparedfirstlybytwo-step 1．1多孔阳极氧化铝膜模板的制备 ofthe werefilledwithCumetal nanoporestemplate by cm× cm×3．00 current toforma 纯度为99．99％、尺寸为3．00 alternatingelec仃odepositioncopper and structureofthe 0．15 nanowire cm的铝片经丙酮和无水乙醇超声波除油、NaOH array．Themorphologycrystal CU wer