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偏压对挡板电弧离子镀TiAlN涂层性能的影响-南昌航空大学期刊网
27 2 : Vol． 27 ． No． 2
第 卷第 期 南昌航空大学学报 自然科学版
20 13 6 Journal of Nanchang Hangkong University :Natural Sciences Jun． 20 13
年 月
偏压对挡板电弧离子镀TiAlN 涂层性能的影响
冯长杰 胡 弦 江鸢飞
( ， 330063)
南昌航空大学 江西 南昌
［ ］ ， 1Cr11Ni2W2MoV TiAlN 。 Ti50Al50
摘 要 采用电弧离子镀技术和挡板 在 不锈钢基体上沉积 涂层 圆形挡板放置于 合金
， 。 ， 0V 、150V 、350V 、550V 。 SEM / EDS 、XRD
靶和试样架之间 尺寸与靶材直径相同 沉积实验在不同偏压下进行 分别为 采用
、 ， TiAlN
研究挡板作用下偏压对涂层微观结构 成分的影响 通过显微硬度计和摩擦磨损试验研究偏压对 涂层力学性能的影
。 ， ，TiAlN Ti ，Al ， 。
响 结果表明 随着偏压的增大 涂层中 含量上升 含量下降 涂层由两相结构向单相结构转变 涂层表面熔滴数
， ， － 150V 。 ，－ 150V
量随偏压增加而减少 涂层硬度上升 沉积速率在 偏压时达到最大 摩擦磨损测试结果表明 偏压时涂层摩
， 。
擦系数和磨损量最小 耐磨性最好
［ ］ ;TiAlN ; ; ;
关键词 电弧离子镀 挡板 偏压 摩擦学性能
［ ］TG174 ［ ］A ［ ］1001 － 4926 (2013)02 － 0063 － 06
中图分类号 文献标志码 文章编号
Effect of Bias Voltage on the Properties of
TiAlN Coating by Shielded Arc ion Plating
FENG Chang － jie HU Xian JIANG Yuan － fei
(Nanchang Hangkong University ，Nanchang ，Jiangxi 330063 ，China)
Abstract :TiAlN coating was deposit
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