玻璃熔片法的制样精度（例） 矿石分析高倍稀释.ppt

X射线荧光分析中的样品制备技术 2008 年 9 月 23 日 XRFA制样需考虑的因素 荧光X射线的穿透深度 试样粒度 试样厚度 试样的均匀性和代表性 试样的表面效应 矿物效应 制样压力和样片密度 荧光X射线在物质中的半衰减厚度： 样品粒度 一般而言，样品粒度应达到穿透深度的5分之1。 随时间变化的样品 制样误差的主要来源 金属样品的制备 块状、板状的金属样品，经抛光后可直接分析 片状、屑状金属，可经离心铸造，再抛光后分析 贵金属、焊料等，加压成形。 粉末样品制备 直接粉末法 其他类型样品 Thank you ! 直接粉末法 样品一般要碎至20--100微米粒度。 优点：制样简单，没有污染，测量过的样品还可用于其它分析。 缺点： 受粒度和矿物效应的影响明显，通常分析的精密度和准确度较差，应用较少。 高分子膜对长波长X射线的吸收很明显，轻元素的灵敏度大幅度下降。 用于定量分析时，要对制样的再现性进行测试。 该法更适合于下照射型的仪器。 透过率 波长 ? 各种高分子膜的X射线透过率 A：1.5 um超聚酯；B：4 um聚丙烯纤维；C：2.5 um聚酯 D：6 um聚丙烯；E：5 um聚碳酸酯；F：6 um聚酯； G：6 um聚酯*；H：7.5 um聚酰亚胺 直接粉末法—样品量对结果的影响 Ti 直接粉末法—样品量对结果的影响 直接粉末法—样品量对结果的影响 * * X R F 技 术 现 状 完整的分析技术族 实验室型 WDXRF、EDXRF 携带式P-XRF XRFM、SR-XRFM TXRF PIXE 、μ-PIXE EMP XANES 完备的分析功能 全元素（Be?U） 全含量（ng/g?100%） 全面积（μm2?块体） 多层次（表面?多层膜） 多形态（固、液、气、其它） 多目标（含量、分布、膜厚、价态）。 多场所 …… 制样简单，无环境污染 常规X射线荧光光谱仪可以直接分析卤水等液体样品 P-XRF光谱仪可以在野外现场进行原位分析 TXRF光谱仪可以直接分析硅片上的杂质元素 SR-XRFM可以直接分析单根毛发中的微量元素 ……… 存在元素间吸收增强效应 属于表面—近表面分析技术，受样品厚度影响 X 射线荧光分析--特点 整体分析样品制备 定量、半定量和定性分析对样品制备的要求有很大差别 定性分析中，样品制备主要是在避免样品污染的前提下，使样品转化成可以放入光谱仪测量的形式。 而定量分析，特别是主成分元素的高精度定量分析，则必须使样品转化为整体均匀、表面平整光滑、（通常情况下）相对于被测最短波长为无限厚、可重复地放入光谱仪测量的形态、形状和尺寸，有时还需要加入内标元素。 样品制备的原则 根据所接受样品的状态及分析要求（分析元素、精密度、准确度等）确定制样方法。 随时间变化的样品 试样吸湿 试样的光化学分解 污染控制 试样的放置位置 标准样品与未知样品的制备方法须尽可能一致。 荧光X射线的穿透深度 XRFA法的一个重要特点是其近表面分析特性。 对于低原子序数的元素，穿透深度可能只有几个微米。 超轻元素的穿透深度往往小于1微米。 而重元素K系谱线在轻基体中的穿透深度可达cm量级 用于分析的样品量应视分析要求确定 当试样在穿透深度尺度上为不均匀时，光谱仪实际分析的部分可能就不代表整个试样。 荧光X射线的穿透深度 试样的厚度应根据波长最短的分析谱线的穿透深度来确定。一般应达到其半衰减厚度的3～5倍。 表面粗糙 表面平整 入射X射线 入射X射线 荧光X射线 荧光X射线 入射X射线 入射X射线 荧光X射线 荧光X射线 块状样品 粉末样品 入射线照射不均匀，荧光X射线强度随位置变化 入射线照射均匀，荧光X射线强度不随位置变化 表面光洁度的影响 表面效应 矿物效应 X射线吸收系数明显差异 可能存在荧光产额差异 硫分析中的矿物效应示例 难以用同一条校准曲线准确分析不同矿物形态的硫 SiO2 CuS2 CaSO4 生石灰 锌锭中Al和Mg 沉淀等造成浓度变化 酸度变化 产生气泡 液体样品 粒度效应 矿物效应 偏析 样品变化（吸湿、氧化等） 粉末样品 样品的不均匀性（偏析等） 结构差别 样品表面污染及表面粗糙度 样品表面变质（氧化等） 固体样品 主要误差原因 样品状态 样品不均匀性 表面效应 污染 未知样品与校准样品制备过程的一致性 样品分类 经简单前处理:如粉碎、抛光，即可直接分析的样品。均匀的粉末样品、金属块、液体即属于此类样品。 需复杂前处理的样品：不均匀的样品、需基体稀释克服元素间效应的样品、存在粒度效应的样品。 需特殊处理的样品：限量样品、需预富集或分离的样品、带放射性的样品。 铜合金 铝合金 锌合金 铅合金 钢铁 铸铁 镍合金 皮带抛光机，砂轮