铂族金属化学气相沉积.pdfVIP

2000 12 Dec.2000 21 4 　　　　　　　　　　　　　　　Precious Metals　　　　　　　　　　　　　　　Vol.21, No.4 郭珊云　周光月　陈志全　周　伟　郑恩华　刘　建　(, 　650221) Platinum Metals Chemical Vapor Deposition Guo Shanyun, Zhou Guangyue, Chen Zhiquan, Zhou Wei, ZhengEnhua, Liu Jian (Kunming Institute of Precious Metals, Kunming 650221, China) Abstract:Chemical vapor deposition technique (CVD)is availa le to making highadherent, dense (non-porous)and fine grain platinum metals coatings on the surfaces of refractory metals such as Mo, Re and W et al .Both coatings of complicated shapes with igger size and alloys can e o tained y CVD.This article introduced the external developing state.Iridium films, as an example of high temperature oxidationresistant coating (up to 2000 ℃), with which the character of platinum metals coatings and asic procedure were descri ed and the technical parameterswere reviewed. eywords:Pltinum metals;Chemical vapor deposition 　:化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)技术可用在高熔点金属 Mo、 Re、 W 等表面制备结合力好的铂族金属涂层。用CVD 法可得到具有微细晶粒的致密金属(无针 孔)涂层, 可制成大形状和形状复杂的制品, 也可用于合金涂层的制备。 本文介绍了该项 技术的国外发展概况, 并以高温抗氧化铱涂层(可耐受2000 ℃高温)为代表, 叙述了铂族 金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤, 并对工艺参数等各项技术特 点进行了系统评述。 :铂族金属;化学气相沉积 :O643　:A 　:1004-0676(2000)04-0049-05 1　前　言 Mo、 Re、 W 、 、 。1500 ～2000 ℃ 。1000 ℃, 。, , 。, , , 。:①500 ～2000 ℃;② 、 ;③;④, :2000—02—25 50 　　 。 , 。 2 　铂族金属涂层的特点 :① 1。②( [1] 1 ), 1 。, 。③, ();④ , , ;⑤ CVD 。 , (2440 ℃)、 3 (22.4g/cm ), , , , 。, 。, 、 , 、 , 。 CVD , , 、 , 。 1　 Ta .1　Melting points of some Pt-group metals and their vapor pressures at melting points 金属种类 Ir Ru Rh Pt 图1　难熔金属的氧化与温度关系图 熔点(℃) 2440 2310 1966 1772 　　Fig.1　Oxidation of