工作气压对室温溅射柔性AZO薄膜性能的影响.pdfVIP

助 材 料 2010年第7期(41)卷 工作气压对室温溅射柔性 AZO薄膜性能的影响 张 惠，沈鸿烈，鲁林峰，江 丰，冯晓梅 (南京航空航天大学 材料科学与技术学院，江苏 南京 210016) 摘 要： 采用射频磁控溅射 法在 PEN衬底上室温制 距离为 14cm。柔性衬底采用 PEN(聚萘二 甲酸 乙二 备 了AzO薄膜 ，并对不 同工作气压下(0．05～0．4Pa) 醇酯 ，厚度 75~m)，并用普通载玻片同时沉积以作性能 沉积薄膜的结构及光 电性能进行 了研究。结果表 明， 比较。制备前衬底依次经丙酮、无水乙醇和去离子水 薄膜具有 良好的C轴择优取 向，随工作气压增大，薄膜 超声清洗 ，N 气吹干。系统本底真空度为 4×10 (002)峰强度减弱，晶粒减小，表面粗糙度增大，电学性 Pa，溅射在高纯氩气 (纯度 99．999 )中进行，溅射功 能下降，薄膜可见光透过率变化不大，但禁带宽度变 率保持在 150W ，Ar气流量为 20mL／min，工作气压在 窄。与玻璃衬底相 比，PEN衬底上沉积 的AZo薄膜 0．05～0．4Pa之间调节。溅射过程 中未对衬底进行加 拥有更高的品质 因数，获得的最佳 电阻率、载流子浓度 热，但由于溅射粒子的持续轰击会使衬底温度稍有提 和霍尔迁移率分别为 1．11×1O Q ·cm、4．14×10。。 高 。 cm 和 13．60cm ／(V ·s)，该薄膜可见光的绝对透射 利用 BrukerD8Advance型 X射线衍射仪对薄膜 率达到95．7％。 进行结构分析 ，MultimodeNanoScope30型原子力显 关键词： AZ0薄膜 ；磁控溅射 ；工作气压 ；PEN衬底 微镜观察薄膜表面形貌，用 ABIoSXP-1型台阶仪测 中图分类号 ： TB43；0484．4 文献标识码：A 试薄膜厚度，用霍尔效应测试仪在室温下测得薄膜的 文章编号：100卜973l(2010JO7—1154—04 电阻率、载流子浓度以及霍尔迁移率 ，薄膜的透射率是 用 ShimadzuUV-255O型紫外一可见分光光度计测得。 1 引 言 3 结果与讨论 AZo(ZnO ：A1)薄膜作为透明导电氧化物 (TCO) 薄膜 ，具有与 ITO相 比拟 的优异光 电特性 ，并且原料 3．1 结构与形貌分析 丰富无毒、制备简单，化学稳定性高，已成为 ITO的最 实验所制薄膜与衬底结合牢固，PEN上沉积的 佳替代材料 。柔性衬底上制备的AZO薄膜因其质量 AZO薄膜弯曲多次后仍无破裂、脱落现象。薄膜厚度 轻、体积小、可折叠、便于携带等独特优势 ，可满足现代 控制在 600nm左右。图l所示为薄膜生长速率与工 光电子器件的发展需求 ，广泛应用于柔性太阳能电池 、 作气压的关系。薄膜生长速率随工作气压增大明显下 塑料液 晶显示器 、触摸屏、不易碎热反射镜等多种领 降，这与溅射粒子平均 自由程的减小有关Ll。 域，备受人们关注 。 目前，已在多种聚合物柔性衬底上制备了AZO薄 i 膜ll]，但因柔性衬底耐热性较差 ，难以获得高质量薄 ● E C 膜 。射频磁控溅射法可在低温下制膜 ，且薄膜 与衬底 童 粘附性高，具有可重复性 ，易于大面积生产。溅射过程 芒