双靶磁控溅射仪说明书 - 天津精品仪器.pdf

双靶磁控溅射仪说明书 VTC-600-2HD 天津品创科技发展有限公司 产品简介 VTC-600-2HD 是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC ） 溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF ）溅射，可溅射金属和氧化物靶 材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制 作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE 薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。 主要特点 1、配置两个靶枪，一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为强磁靶用于铁磁性材 料的溅射镀膜。 2、可制备多种薄膜，应用广泛。 3、体积小，操作简便。 结构 溅射电源 1、安装有两个溅射电源 2、直流（DC ）电源：500W ，针对于制作金属膜 3、射频（RF ）电源：600W ，可制作氧化物和金属膜 4、同时可选配300W 的射频电源 磁控溅射头 1、仪器中安装有2 个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温 2、其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材 3、另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材 4、靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,最大厚度1.5mm 5、陶瓷靶：直径为50mm,最大厚度6mm 6、仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶 7、溅射头所需冷却水：流速10ml/min （仪器中配有一台流速为16ml/min 的循环水冷 机） 真空腔体 1、真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作 2、观察窗口： 100 mm diameter 3、腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易 载样台 1、载样台尺寸：140mm dia. （最大可放置4的基底） 2、载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调） 3、载样台最高可加热温度为500℃，控温精度为+/- 1.0 °C 气体流量控制器 1、仪器内部安装有2 个质量流量计 2、量程为：0-200sccm 3、气体流量设置可以在6 英寸的触摸屏上进行操作 真空泵系统 配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作 薄膜测厚仪 1、一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为 0.10 Å 2、LED 显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 技术参数 型号 VTC-600-2HD 电源 220V 50Hz 总功率 2KW 真空度 1E-8mbar （配合本公司设备使用可达到1E-5mbar） 工作温度 室温-500℃，精度±1℃ 靶枪数量 2 个（可选配其他数量） 靶枪冷却方式 水冷 靶材尺寸 Φ2”，厚度0.1-5mm （因靶材材质不同厚度有所不同） 直流溅射功率 500W 射频溅射功率 600W 载样台 Φ140mm 载样台转速 1-20rpm 内可调 保护气体 Ar、N 等惰性气体 2 1 直流电源控制系统 1 套