基底结构对磁控溅射铜膜电磁屏蔽效能的影响.pdf

第 3O卷 第 8期 纺 织 学 报 Vo1．30 No．8 2009年 8月 JoumalofTextileReseareh Aug． 2009 文章编号 ：0253—9721(2009)08—0043—06 基底结构对磁控溅射铜膜 电磁屏蔽效能的影响 刘 雪，狄剑锋，齐宏进 (五 邑大学 纺织服装系 ，广东 江门 529020) 摘 要 用直流磁控溅射法分别在涤纶机织布、针织布、纺粘非织造布表面制备铜薄膜，并用频谱分析仪与专用波 导管测试所得样 品在100MHz～1．5GHz~,间的电磁屏蔽效能 ，用扫描电镜观察溅射样品的表面形貌 ，用显微镜观察 基底布孔隙，并对结果进行 比较分析 。发现基底布表面结构形貌与孔隙对屏蔽效能均产生影响，前者更为显著。 根据导 电网络 的连续性 、几何结构的立体性及紧密程度 、孑L隙及未沉积 的涤纶空 白样表面的几何结构对表面电阻、 表面吸收损耗及反射损耗 的影响 ，分析非织造布正反面屏蔽效能 曲线的差异 。非织造布正表面 由于纤维粘连紧 密 ，沉积铜后形成较连续的导电网络 ，屏蔽效能好 ；机织 、针织布反之 ，屏蔽效能较差 。除表面密实及平坦程度外 ， 缝隙的尺寸及分布也影响屏蔽效能与频率 曲线的形状。 关键词 磁控溅射 ；铜膜 ；电磁屏蔽效能 ；导 电网络 中图分类号 ：0484．4 文献标 志码 ：A Influenceofsubstratestructureon electromagneticshielding effectivenessofcopperfilm preparedbymagnetron sputtering LIUXue，DIJianfeng，QIHongjin (DepartmentofTextileEngineering，WuyiUniversity，Jiangmen，Guangdong 529020，China) Abstract Copperfilms，whose shielding effectivenessofelectromagnetic wave weretested by rfequency spectrum analyzercombiningwith specialtransmissionlineintherfequencyextensionof100MHz一 1． 5GHz， wereproducedonthesurfacesofPETwoven，knittedandnonwovenfabricsbydirectcurrent(DC)magnetron sputtering，respectively．SEM wasusedtoobservethesurfacemorphologyofthesamples．Microscopewas usedtoobservetheporesofthesubstrates．Theanalysisrevealedthatthesurfacemoprholoyg andporesofthe substrateshadinfluencesontheirelectromagneticshieldingeffectiveness，buttheformerhadamoresignificant role．In accordancewith allofthe continuity ofthe conductive network，the three—dimensionaland the tightnessofthe geometrysturcture，and the non deposition surface ofpolyesterblank sample geometry S influenceon the surfaceresistance，su