采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜.pdfVIP

第28卷第10期 半 导体 学 报 v01．28 No．10 2007年10月 CHINESEJOURNALOFSEMICONDUCTORS Oct．．2007 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能 衍射微透镜+ 张新宇“’ 陈胜斌1 季 安3谢长生2 (1华中科技大学多谱信息处理技术国防科技重点宴验室，武汉430074) (2武汉光电国家实验室，武汉430074) (3中国科学院半导体研究所，北京100083) 摘要：采用单步光刻和湿法腐蚀工艺，低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射徽透镜．所 制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级·衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整．通光孔径 在毫米至厘米量级的范围内可调．组成衍射微透镜的大量基本相位结构，可以根据入射和出射光束的形貌特征及 参数指标t通过衍射积分算法灵活设置和排布．远场光学测试显示了所制衍射徽透镜的高衍射效能． 关键词：高性能衍射微透镜}衍射积分算法；单步光刻}湿法腐蚀工艺{DVD物镜 PACC：4225F；4280K}4285 中图分类号：0438 文献标识码：A 文章编号：0253．4177【2007)10．1625．05 微米特征尺度的非球面微透镜、微棱镜和微反射镜 1引言 等，其表面粗糙度已达到几十纳米“]．2004年，日本 和法国的研究人员采用反应离子刻蚀方法，成功制 目前，作为DVD系统核心结构之一的光学头 作了非球面MEMS微透镜，其表面粗糙度达到了 物镜，其用量每年以亿只计，我国主要以进口为主， 25nm的水平”]．研究表明，通过该技术可以快速获 成为制约我国光存储工业持续发展的一个瓶颈因 取通光孔径在厘米和毫米量级，具有球面及非球面 素．通常情况下，制作DVD光学头物镜需要精密的 轮廓的凸或凹折射透镜，并且非球面度可以在很宽 加工设备，繁杂的工艺流程以及人工的干预，从而带 的范围内调节．上述这些工作均基于美国新墨西哥 来了诸如制作成本高，制作周期长，光学性能有限， 工艺环节易受人员、设备和环境条件影响等问题．近 化学腐蚀作用在{100}晶向的硅单晶材料表面制备 些年来，尽管通过引入计算机辅助设计和制作以及 凹折射微透镜结构这一技术r31． 二元光学技术等，使工艺水平有了不同程度的改进 随着衍射微光学理论和实验技术的迅速发展， 与提高；利用非球面度有限的折射以及二元衍射微 迄今为止，衍射微光学元件已获得广泛应用，以早期 透镜，显著增强和扩展了光学结构的性能，有效降低 的二元微光学结构，近些年发展起来的基本相位结 了光学结构的外形尺寸等．但成本高。加工周期长， 构基于衍射积分算法生成和调控的高性能衍射元件 光学性能有限，光学结构的形貌和结构参数难以根 等为典型代表“。]．现代衍射微光学结构所具有的 据需求灵活设计和调控等缺陷依然存在．为了解决 高效光束整形、聚焦和准直效能；可以依据算法对构 这些问题，人们提出了多种改进方法和措施． 成衍射元件的大量基本相位结构，进行空间排布和 为了充分利用现代微电子工业的若干成熟工 结构特征等的精细设计和调控；以波前为基础的光 艺，发挥其在可靠性，重复性，价格，精细图形结构的