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热处理温度对t io 2 薄膜性能的影响 - 武汉理工大学学报.pdfVIP

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  • 2017-09-02 发布于天津
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热处理温度对t io 2 薄膜性能的影响 - 武汉理工大学学报.pdf

    热处理温度对t io 2 薄膜性能的影响 - 武汉理工大学学报

    24 6 武　汉　理　工　大　学　学　报 Vol. 24　No.6 2002 6 JOURNAL OF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 　Jun. 2002 : 1671-4431(2002) 06-0001-03 TiO2 * 黄代勇　龚跃球　刘保顺　赵青南　赵修建 ( ) : 　采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了TiO 薄膜。靶材为纯度99. 9% 的钛靶, 溅射 基片不加热。 2 XRD 结果显示, 所得TiO 薄膜的晶型为锐钛矿相; S M 结果显示, 随着热处理温度的增加T iO 薄膜晶粒尺寸增大; 光 2

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