万克树《材料分析技术》2.3扫描电镜.pptVIP

* 样品制备 （3）清洁、预处理： 样品表面要清洁、无粉尘。 含水或易挥发物应进行预处理，磁性材料预先去磁。 为防止假象存在，将试祥用丙酮或酒精清洗。必要时用超声波，或表面抛光。 * 样品制备 （4）侵蚀： 需侵蚀的样品，侵蚀后要清洗、烘干。 （5）复型： 某些情况可采用复型样品。 * 图像解释 SEM的图像是通过像衬度来解释。 图像的衬度反映的信号衬度。 SEM像衬度的形成主要基于样品微区存在差异，使产生特征信号强度差异。 根据衬度形成的依据分为： 形貌衬度 原子序数衬度 * 形貌衬度 由于试样表面形貌差异而形成的衬度。对表面形貌变化敏感的物理信号作为调制信号所得到的像衬度。 信号强度是试样表面倾角的函数，表面微区形貌差别实际上就是其对入射电子束的倾角不同，电子束在试样上扫描时任何两点的形貌差别，表现为信号强度的差别，在图像中形成显示形貌的衬度。 二次电子像的衬度是典型的形貌衬度。 * 形貌衬度 光滑试样表面、入射电子束能量大于1 且固定不变时，二次电子的产额与电子束入射角度的关系为： 为入射电子束与试样表面法线的夹角 入射电子束与试样表面法线间夹角愈大，二次电子产额愈大。 * 形貌衬度 样品看作由许多位向不同的小平面组成。 入射电子束方向固定，试样表面的凹凸不平，对其表面不同处的入射角也不同。 电子束在样品表面扫描时任何两点的形貌差表现为