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化学机械研磨废水相关处理技术 - mipaper
理
CMP
CMP
CMP
了 Slurry
5~1030~100 奈nm
粒 1
pH 例KOH NH OH HNO …2
4 3
例 …3
降 更
Repeatability CMP 力
CMP 來 CMP
來 粒
SiO Al O CeO 來
2 2 3 2
例金 金 料
CMP
金 了
量CMP
20 CMP
700 m3 CMP 1999 年 2000 年
4.088 x 108 3 3
m 5.223 x 108 m
CMP 了 40%
CMP 量 CMP 量 度
-1-
度理
-2-
2.1 CMP
CMP Chemical Mechanical Polishing
路 VLSI 路 ULSI
來 IBM 數 年
理
不力
便 理利類 “
”理 Reagent
不輪廓 “”
參數CMP 94%
度 利
2-1 來行 CMP
來行 來
便行
CMP 行
來 CMP 行
CMP 利
2-2
-3-
2-1 CMP
2-2
-4-
2.2 CMP 類
CMP 狀
狀 KOH NH4OH
CMP 不異 例
金 CMP
類 2-1 5
~10 30 ~100 奈粒類
SiO Al O CeO W…
2 2 3 2
pH SiO2
2~3 Al2 O3 8~9 CeO2 6.5~7 W 2.0~2.5
2-1 CMP 類
CMP
SiO KOH NH
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