多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构 - 光子学报.pdf

第 卷第 期 光 子 学 报 ３８ １０ 　 　 　 Ｖｏｌ．３８Ｎｏ．１０ 年 月 　　　　　　　　　　　　 ２００９ １０ ＡＣＴＡＰＨＯＴＯＮＩＣＡＳＩＮＩＣＡ Ｏｃｔｏｂｅｒ２００９ 多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构  朱冀梁，张恒，陈林森 ，李晓建，周小红 （苏州大学 信息光学工程研究所，江苏 苏州 ２１５００６） 摘 要：使用波长 ３５１ｎｍ的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源，经过位相光栅分束，形成干 　 涉光场，在硅表面直接刻蚀微结构，制作了周期为０．５５ ｍ，槽深可达 ５５ｎｍ的一维微光栅和周期 μ 为 ，刻蚀深度 的正交微光栅结构 给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子 １．２５ ｍ ４５ｎｍ ． μ 力显微镜的测量结果 正交微光栅的一级衍射效率在 之间 该研究是改变硅表面微 ． １．８％ ６．３％ ． ～ 结构，优化硅材料特性的一种新方法，并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用． 关键词：光栅微结构；刻蚀；衍射效率；硅 中图分类号： ； 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＮ２４９ ＴＨ７４４．５ Ａ １００４４２１３２００９１０２４６３５ 　　　 　　　 ０ 引言 表面直接进行微加工的方法，工艺简洁，运行效率和 　 刻蚀微结构精细程度较高． 随着激光技术的不断成熟和大规模集成电路的 １ 光刻系统和实验 发展，激光光刻技术有了长足的进步并且广泛应用 　 ［ ］ ［］ ［］ １７ ２ ３ 于工业加工的各个领域 ．许丽 ，王海旭 等利 实验所用光刻系统如图 其中 激光器 １． ＤＰＳＳＬ 用飞秒激光与其诱导出的等离子波相干作用在单晶 的参量为波长 ３５１ｎｍ、脉冲宽度 ２０ｎｓ、重复频率 ［］ ６ 硅表面生成了纳米光栅结构．Ｔ．Ｋｏｎｄｏ等 利用衍 １ｋＨｚ、输出脉冲能量 ０ ２ｍＪ，出射光束直径为 ～ 射分束器（ ， ）实现了 ＤｉｆｆｒａｃｔｉｏｎＢｅａｍ ＳｌｉｔｔｅｒＤＢＳ ｐ