有机硅改性光敏促进剂的研究 - 消泡剂.pdf

维普资讯 第23卷 第3期 电镀 与 涂 饰 Vo1．23 No．3 Electroplating ＆ Finishing Jun．2004 2004年 6月 有机硅改性光敏促进剂的研究 黄高山， 刘灿明， 曾盔， 杨建奎， 罗景 (湖南农业大学应用化学系，湖南 长沙 410128) 摘 要： 以多官能丙烯酸酯为骨架，接入含氢硅氧烷分子链，并引入有机胺基团合成了一种性能优 良的有机硅 改性光敏促进剂 介绍 了其基本配方，并对两步反应对光敏促进剂性能的影响、反应温度及反应时间对两步反应的影 响等进行了研究、该促进剂能显著提高涂膜的光固化速率 ，改善涂膜的消泡和流平性能。 关键词： 光敏促进卉l】； 有机硅改性； 光固化速率 中图分类号 ： TG174．461 文献标识码 ： A 文章编号 ： 1004—227X(2004)03—0003—03 M odifiedphotosensitiveaccelerantwithorganosilane HUANGGao—shan，L1U Can—uring，ZENGKui，YANGJian—kui，LUOJing (Dept．ofAppliedChemistry，HunanAgriculturalUniVersity，Changsha410128，China) Abstract：A kindofmodifiedphotosensitiveaccelerantwithorganosilanehavinggoodperformanceswassynthesized withmulti．functionalacrylicesterasmainchain，withhydrogensiloxaneas branched—chain，andbyusingorganicamine group．ThebasicformulaWas introduced．Th eeffectoftheorderoftworeactionstepsinthesynthesisonperformancesof theaccelerant．andtheeffectoftemperatureandtimeonthetwostepsofreactions，etc．，werestu ed．Th eaccelerant callimprovethephoto—curingPate，antifoamingperfomr anceandlevelingperformanceofthecoatings． Keywords：photosensitiveaccelerant； modifywithorganosilane； photo—curingrate 加交联成膜，因而避免了涂膜发雾等不 良现象。如湖南 1 前言 大学采用迈克尔加成反应，用 TMFFA(三羟甲基丙烷三 紫外光固化光敏覆膜胶 (纸张用 uV涂料)主要 由光 丙烯酸酯)与二乙胺合成的叔 生物就是光敏活化剂 敏树脂、活性单体 、光引发剂和其他助剂组成。助剂主 的实例_2。文献∞j也报道了采用有机硅与不饱和树脂 要包括消泡剂、流平剂和光敏促进剂等，它们的添加量 合成具有紫外光固化性能的预聚体作为添加剂，通过添 往往在千分之几到百分之几，但对涂料性能和涂膜性能 加剂 中的聚硅氧烷链段能明显改善涂膜表面的平滑性。 却有着举足轻重的作用。例如0。，在一般的紫外光固化 为了改善涂料的光亮 、流平性能，常加入有机硅类消泡 涂料