65 nm工艺及其设备 65 nm Technology and its Equipment.pdfVIP

下载本文档

28
0
约1.34万字
约 4页
2017-08-12 发布于上海
举报
版权申诉

65 nm工艺及其设备 65 nm Technology and its Equipment.pdf

1、本文档共4页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

65 nm工艺及其设备 65 nm Technology and its Equipment

：煮刻撞查皇遮鱼：塑点鼠蚕薹矗基如蚕罄墓基团 65nm工艺及其设备翁寿柱 (无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001) 3 nm nm_T-艺及其设备。它包括光刻工艺与19hrf／浸入式光刻机、超浅结工摘要：介绍了65 艺与中电流／高电流离子注入机、铜互连工艺与PVD／ALD设备、CMP工艺与低应力CMP设备和清洗工艺与无损伤清洗设备等。关键词：65nm工艺；设备；芯片文章编号：1004—4507(2006)02—0018—04 中图分类号：TP271，4文献标识码：A 65nnl andits TechnologyEquipment WANG Shou—song LuoTeElectronic (Wuxi Co．，Ltd，Wuxi214001，China) this am andits areintroduced．Itincludes Abstract：In technologyequipment lithography paper，65 and193amArF／immersion andmiddle lithography juctiontechnology technology equipment，ultrashallow currention interconnectionandPVD／ALD current／high injectingequipment，Cu technology equipment， CMP andlowstressCMP and and technologydamage—freecleaning technology equipmentcleaning SO andon． equipment am Keywords：65technology；Equipment；Chip． 1 引言的新型65 漏电流为0．1nA／Bm，比P1264低1000倍。P1264 65 nIn工艺及其设备将是2006年全球半导体产业热门话题之一[-，引。全球半导体市场“霸主”英特尔将集中大量财力、人力量产65nin芯片，2005年尔于2005年底，2006年初采用65nm工艺量产处理 4月英特尔原CE0贝瑞特在以色列开展业务活动30周年庆典上指出：“英特尔将投入大量资金(约50亿美 2003要求2007年器，比国际半导体技术蓝图ITRS 实现65nm工艺的规划整整提前了1年。英特尔已元)用于升级到65Rill生产工艺。”2005年6月英特尔新上任CE0欧得宁声称：“要在5座巾300nm晶推出用于高