增强90nm以下节点应用的工艺控制适应性 enhancing process control flexibility for sub-90 nm applications.pdfVIP

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2017-08-17 发布于上海
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增强90nm以下节点应用的工艺控制适应性 enhancing process control flexibility for sub-90 nm applications

：皇墅塑遭：甄。悬盂型增强90nm以下节点应用的工艺控制适应性 Jolln PoliehoV Y帅anino，Vivien Holland，Anmy Chang，James Mate^als，h．，s如taclm，cA，USA) (Applied 摘要：器件尺寸正在对半导体加工工艺从多方面提出新的挑战。对于在90呦节点之后的应用，需要更大改进．且用适应性强的先进工艺来克服更大节点工艺中已得到验证的固有技术的限制。不仅基于先进工艺控制(APC)的下一代工艺设备能够得到来自一个以上信息来源的测量数据，而且将这些测量数据转换成为工艺控制参数以减少性能变化．下一代工艺设备必须提供生产线许多表明圆片经过工艺设备的整个控制程序特性。这种先进工艺控制系统将给予生产线高度理想的、适合先进工艺控制的适应能力需求．实现对其独特的生产线提供最大的优势。关键词：先进工艺控制；下～代工艺设备；生产线；适应能力需求；圆片测量中图分类号：1N305 文献标识码：A ProcessControl fbrSub一90nm Enhancing Flexibility Jolln Poliekt0” Y锄anino，vivi即Chang，JamesHollalld，Androy MaIe—aIs，IIIc．，s如taclam，cA，UsA) (Applied is ncw for Ofscmiconductor Abstract：Device challenges scalillgposing mally唧ects processing．More nexibleadvancedconnDls neededforsub-90．11|Il t0 sophistic疵d蚰d process (APC)are applications inherelltin thathave eff如tive nodes．NotmIIst overcomelimita恼ons tcchniques proven f打la唱er Only APC beabletoreceive data仔ommoretllanone sys船【ns me仃口logy next-genemtionpmce蟠-tool-based sourceaIld打anslatctheminto toreduce must process—connDlparallleters perfbnnaⅡceⅥ【riations，Ⅱ掉y for theen6re wafers thefHbhOstwi血features contm【sequence pfovide f研designatingp∞cess