高功率垂直腔面发射激光器的湿法腐蚀工艺 - 发光学报.pdf

第 卷第 期 发 光 学 报 年 月 文章编号 高功率垂直腔面发射激光器的湿法腐蚀工艺 侯立峰 冯 源 杨永庄 瞿建新 赵英杰 装甲兵技术学院 电子工程系 吉林 长春 长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室 吉林 长春 摘要 为提高高功率垂直腔面发射激光器光电性能对氧化限制型高功率湿法腐蚀工艺进 行了实验研究 实验中采用 系溶液替代以往制备此类器件常用的 系溶液作为高功率 外延片的腐蚀液利用扫描电镜研究了腐蚀后外延片氧化窗口的腐蚀形貌变化与腐蚀液浓度的关系 消除了以往采用 系溶液腐蚀时高功率氧化层侧壁出现的燕尾 结构通过改变湿法腐蚀工 艺的外部温度条件和腐蚀液的浓度配比实验研究了高功率湿法腐蚀速率规律最后得出了制备高功 率时湿法腐蚀工艺的最佳外部温度条件与腐蚀液的最佳浓度配比 关键词 激光技术 垂直腔面发射激光器 湿法腐蚀 腐蚀速率 中图分类号 文献标识码 但它的缺点也比较明显主要是腐蚀出的外延片 引言 的氧化窗口形貌不好易出现横向钻蚀现象同时 近年来随着湿法氧化工艺在垂直腔面发射 的腐蚀速率受外界影响较大很难实现腐蚀深度 半导体激光器 研制中的应用高功率 的精确控制 基于以上湿法腐蚀工艺的缺点我 的性能得到极大改善其应用领域日益广 们利用扫描电镜 从湿法腐蚀后高功率 外延片氧化窗口的形貌与腐蚀速率的稳定 泛 目前高功率 普遍采用湿法氧化 工艺制备而成湿法氧化已经成为制备高性能高 性两方面入手对高功率的湿法腐蚀工艺 进行了实验研究 功率的关键技术 一般在进行湿法氧 化工艺制备高功率器件时首先应采用腐 实验 蚀工艺在高功率 外延片的 面腐蚀出环 形氧化窗口腐蚀沟槽以曝露 与有源区 实验中使用的高功率外延片由 之间的高铝氧化层从而使在湿法氧化工艺中的 系统生长其生长结构为在衬底上先生长 对 水蒸气能够充分与氧化层中的 构成的渐变 每 层的光学厚度为 在 型上部 生长由 发生反应氧化后形成的氧化层可实现良好的电 限制和折射率导引实现极低的阈值电流和较高 对 构成的应变补偿量子 阱构成的有源区腔长为 有源区上面生长含 的电光转换效率 这里氧化窗口的腐蚀深度