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es势垒随台阶高度变化对薄膜生长的影响 effects of ehrlich-schwoebel barrier changing with step height on thin film growth
第33卷 第5期 固体电子学研究与进展 V01.33,No.5
2013年10月 RESEARC 0ct.,2013
HPROGRESSOFSSE
7\pupqpq)pqp“
≈材料与工艺l
7k_p_f4_。c^《c^0
ES势垒随台阶高度变化对薄膜生长的影响+
李德钦 唐吉玉“ 崔 婧 李 培 王 茜
(华南师范大学物理与电信工程学院,广州,510006)
2013-03—12收稿。2013-04—28收改稿
化。模拟结果表明:考虑ES势垒时,随着基底温度升高和沉积速率的降低,薄膜的粗糙度越来越低,成膜质量越
好;一层ES势垒和层间势垒差对薄膜生长机制和成膜质量都有影响。
关键词:薄膜;ES势垒;台阶高度;粗糙度;覆盖率
中图分类号:0484 文献标识码:A 文章编号:1000—3819(2013)05—0458—04
EffectsofEhrlich—SchwoebelBarrier
Changing
with onThinFilmGrowth
StepHeight
LI TANGCUI LIPeiWANGXi
Deqin Jiyu Jing
(School andTelecom,”unication ChinaNormal
ofPhysics Engineering,SouthUniversity
Guangzhou,510006,CHN)
3一dimensionalthinfilmissimulatedin
Abstract:A MonteCarlomethod.Inthismode,Ehr—
lich—Schwoebelbarrier withthe resultsare
changes stepheight.Two concluded:Whenconsider—
Ehrlich~Schwoehelfilmbecomessmootherwiththesubstrate
ing barrier,the temperaturerising
and rate Ehrlich—Schwoebelbarrierandthebarrierdifference
depositiondecreasing:Onelayer
willinfluencethe andthe thin
of film.
growthprocess quality
words:thin rate
Key film;Ehrlich—Schwoebelbarrier;stepheight;roughness;coverage
EEACC:0240G;0520
人们应用蒙特卡罗模型模拟薄膜的生长,取得
引 言 了很大的成果。刘祖
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