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2017-08-20 发布于上海
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inp空气隙结构的制作与特性 fabrication and characterization of inpair-gap structure.pdf

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inp空气隙结构的制作与特性 fabrication and characterization of inpair-gap structure

并电子·激光第19卷第9期2008年9月 of V01．19No．9 Journal Sep．2008 Optoelectronics·Laser InP／空气隙结构的制作与特性* 刘成1’2，曹春芳1，劳燕锋1，曹萌1，吴惠桢¨ (1．中国科学院上海微系统与信息技术研究所，信息功能材料国家重点实验室，上海200050；2．上海空间电源研究所，上海200233) 摘要：研究了采用不同溶液制作InP／空气隙的侧向腐蚀1_艺。对腐蚀速率、晶向选择性、表面形貌进行了分析；研究了粘附释放工艺；在上述基础上制作完成了InP／空气隙结构，并采用微拉曼光谱来分析其应力分布情况，证实了制作工艺的可靠性。关键词：InP／空气隙；侧向腐蚀；微挣曼光谱中图分类号：TN248．4文献标识码：A 文章编号：1005-0086(2008)09—1188—04 Fabricationandcharacterizationof structure InP／air-gap UU Hui—zhen。 Chenga”，CAOChun-fanga，I．AOYan-fengI，CAOMenga，WU ofFunctionalMaterialsfor Instituteof andInforrna— (1．StateKeyLaboratory Informatics，ShanghaiMierosystem tion of Instituteof Power Technology，ChineseAcademySciences，Shanghai200050，China；2．ShanghaiSpace Sources，Shanghai200233，China) Ahtract．．The structureisfabricated lateral withdifferent InP／air-gap byusing etching etchants．Etching rates，anisotropy andsurface arealso stiction is thesurfacestress of analyzed．Andreleasingtechnology profiling roughness investigated．Then the structurehasbeencarriedout micro-Raman ofourfabriea— InP／air-gap by measurements，whichreliability provesgood tion process． Keywords：InI)／air-gap；lateraletching；micro-Ramanspectrum