rf磁控溅射功率对znoal薄膜结构和性能的影响 effect of rf power on the structure and properties of znoal films deposited by magnetron sputtering.pdfVIP

光电子·嫩光 9 第19卷第12期2008年12月 of V01．1No．12Dec．20Q8 Journal Optoelectronics·Laser RF磁控溅射功率对ZnO：AI薄膜结构和性能的影响 杨伟锋1，刘著光1，吕 英1，黄火林1，吴]E-Z-1’2。 (1_厦门大学物理系，福建厦门361005；2．厦门大学萨本栋微机电中心，福建厦门361005) 摘要：采用RF磁控溅射技术以ZnO：Alz03(2wt％A12Q)为靶材在石英玻璃衬底上制备多晶ZnO：A1(AZO) 薄膜，通过XRD、AFM、AES以及Hall效应、透射光谱、折射率等手段研究了RF溅射功率(50～300w)对薄膜 的组织结构和电学，光学性能的影响。分析表明：所制备的AZO薄膜