多壁碳纳米管定向生长参数的研究 grown parameters of multiwalled carbon nanotube with microwave plasma chemical vapor deposition.pdfVIP

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2017-08-25 发布于上海
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多壁碳纳米管定向生长参数的研究 grown parameters of multiwalled carbon nanotube with microwave plasma chemical vapor deposition.pdf

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多壁碳纳米管定向生长参数的研究 grown parameters of multiwalled carbon nanotube with microwave plasma chemical vapor deposition

张铁军，陈泽祥：多壁碳纳米管定向生长参数的研究文章编号：1006-6268(2009)05-0026--04 ·基金项目：教育部留学回国人员科研启动基金(编号：获术多壁碳纳米管定向生长变流参数的研究张铁军，陈泽祥 (电子科技大学光电信息学院，成都610054) 摘要：研究了利用微波等离子体化学气相沉积法制备碳纳米管时各种工艺参数的影响。在化学气相沉积中催化剂起着至关重要的作用．为分析催化剂对碳纳米管生长情况的影响，采用常用的催化剂Fe和Ni作对比实验，并利用扫描电子显微镜表征手段分析不同催化层对碳纳米管生长情况的影响。发现使用Fe催化层在较高温度下，碳纳米管生长形貌较Ni催化层要好。而沉积温度在制备碳纳米管的过程中也起这重要的作用。所以实验针对不同沉积温度进行碳纳米管生长，结果发现6000C左右温度较适合碳纳米管生长。关键词：碳纳米管；催化剂；化学气相沉积；扫描电子显微镜中图分类号：TB302．2文献标识码：A with GrownParametersofMultiwalledCarbonNanotube MicrowavePlasmaChemical Deposition Vapor ZHANG Tie-jun，CHENZe-xiang of ofElectronicScienceand (SchoolOptoelectronicInformation，University of 61 TechnologyChina，Chengdu0054。China) Abstract：Thearticlesummarizedthe andthetrendofdevelopment preparation，characters ofcarbon havedonetostudiedtheInfluenceoftechnicaI nanotube(CNT)．Experiments inmicrowavechemical iS parameters plasma vapor catalyst deposition(MWPECVD)．The a didsome roleinchemical fCVD)，thearticle playingveryimportant vapor deposition withFeandNi for the influ