纳米多层膜调制结构的成分分析法表征.pdfVIP

2001年 微 细 加 工 技 术 № 1 第 l期 ⅣEd0{ab cati【Ⅱl Tech~top] 200l 文章编号：1003-82[3(2001)01-0057-05 纳米多层膜调制结构的成分分析法表征 李戈扬‘-一，许俊华 。姚应红 ，顾明元 (L上海交通大学金属基复合辩料国家重点实验室，上海200030~ 2中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室，兰州730000) 摘要：纳米多层膜的物理性能和力学性能的异常效应均与其调制结构有关。采用x 射线能量分~-／tt-仪(EDS)成分分析方法对不同调制周期和调制比的W／Mo纳米多 层膜进行表征，并与透射电子显微分析(TEM)和x射线衍射分析(Ⅺ∞)方法进行了 比较。结果表明：采用EDS成分分析方法，可以表征纳米多层膜的调制比。EDs方 法与XRD分析相结合，可以方便而堆确地表征纳米多层膜的调制结构。 关键词：纳米多层膜~itll制结构；表征方法；EDS 中圈分类号：0484，5 文献标识码；A 引言 构，如图1所示。这种调制结构通常用两个 结构参数进行表征：调制周期A指A、B两调 由两种材料交替沉积形成的纳米多层薄 制层的厚度之和(A=lA+Is)；而调制比R则 膜，由于所呈现的物理性质和力学性质的异 表示了A、B两调制层的厚度之比(R：1A： 常效应而成为近年来薄膜研究的热点之一。 IB) 如，在力学性质方面，一些纳米多层膜的弹性 模量与硬度随调制周期和调制比呈现变化， 豳■豳隧强_ n 并在小周期时出现异常升高的超模量和超硬 度效应…。近期的研究发现，这种超硬效应 ■圈—■—一 的产生与纳米多层膜的调制比也有密切关 ●■●■■—I 摹件 系 J。又如，在电学性质方面，一些纳米多 层膜存在薄膜电阻，在外加磁场的作用下，明 图1 纳米多层膜调制结构示意图 显改变其巨磁电阻效应(OMR)，这种现象也 与其调制周期和调制比有关 J。 目前．对于纳米多层膜调制结构的表征 纳米多层膜最主要的结构特征，是其成 技术主要采用x射线衍射分析(XRD)、薄膜 分在垂直于薄膜表面呈周期性变化的调制结 横截面的透射电子显微分析(TEM)和俄歇 收稿日期：20oO一07-04 作者简介：李戈扬(1953一)，男，硕士，副教授，现从事薄膜技术与夏合材料界面研究；许俊华(1962’)，男， 博士 副教授，现在13本东京大学从事薄膜技术研究；姚应红(1975-)，男，现就读于上海交通大学材料科学与 工程学院，攻读硕士学位。 李戈扬等：纳米多层膜调制结构的成分分析法表征 电子能谱(AES)的深度分析。其中Ⅺ 方 式中n为A组分的质量分数，pA、舶分别 法，是利用纳米多层膜调制结构所产生的小 为A、B组分的密度。 角度衍射峰和高角度晶面衍射的“卫星峰”测 至此，问题归结于如何准确测定一个调 定纳米多层膜的调制周期【 。这种方法方 制周期内A、B两调制层的质量分数。 便可靠。采用TEM对纳米多层膜的横截面 在众多表征薄膜化学成分的技术中，x 进行观察，既可以测量纳米多层膜的调制周