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非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理.PDF
非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理
陈仙 王炎武 王晓艳 安书董 王小波 赵玉清
Effectoftitaniumionenergyonsurfacestructureduringtheamorphoustitaniumdioxidefilmdeposition
ChenXian WangYan-Wu WangXiao-Yan AnShu-Dong WangXiao-Bo Zhao Yu-Qing
引用信息Citation: ActaPhysicaSinica, ,246801(2014) DOI: 10.7498/aps.63.246801
在线阅读Viewonline: /10.7498/aps.63.246801
当期内容Viewtableofcontents: /CN/Y2014/V63/I24
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物理 学报 Acta Phys. Sin. Vol. 63, No. 24 (2014) 246801
非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量
对表面结构影响的机理
安书董 王小波 赵玉清
陈仙 王炎武 王晓艳
(西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049)
( 2014 年4 月28 日收到; 2014 年8 月13 日收到修改稿)
研究了非晶氧化钛薄膜沉积过程中入射钛离子能量对表面结构形成机理以及薄膜特性的影响. 模拟结果
表明, 通过提高入射钛离子能量, 可以有效降低成膜表面粗糙度, 从而减小薄膜表面的光学散射损耗. 研究发
现, 当入射离子能量提高后, 薄膜生长模式从“岛” 状生长过渡到了“层” 状生长, 且离子入射点附近的平均扩
散系数也有显著增加, 这有利于形成更加平整的高质量薄膜表面.
关键词: 薄膜生长, 分子动力学, 表面结构
PACS: 68.55.A–, 31.15.xv, 81.15.Aa, 02.60.–x DOI: 10.7498/aps.63.246801
局限性, 无法给出更详细的生长过程的信息. 随
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