薄膜的物理气相沉积(ⅱ)溅射法及其他pvd方法.pptVIP

薄膜的物理气相沉积 第三章 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ） ——溅射法及其他PVD方法 溅射法：带有电荷的离子被电场加速后具有一 定动能，将离子引向欲被溅射的靶电极。在离 子能量合适的情况下，入射离子在与靶表面原 子的碰撞过程中将后者溅射出来。溅射原子带 有一定动能，且沿一定方向射向衬底，实现衬 底上薄膜的沉积。 3.1 气体放电与等离子体 3.1.1 气体放电现象描述 V=E-IR 3.1.2 辉光放电现象及等离子体鞘层 等离子体：由离子、电子以及中性原子和原子团 组成，宏观上对外呈现出电中性。 电子由于极易在电场中加速而获得能量，因而 平均速度比较快。 离子能量及平均速度均远远低于电子。 鞘层电位 3.1.3 辉光放电的碰撞过程 3.2 物质的溅射现象 3.2.1 溅射产额 （1）入射离子能量 （2）入射离子种类和被溅射物质种类 （3）离子入射角度 （4）靶材温度 3.2.2 合金的溅射和沉积 3.3 溅射沉积装置 3.3.1 直流溅射 3.3.2 射频溅射 3.3.3 磁控溅射★ 3.3.4 反应溅射 3.3.7 离子束溅射 3.4 其他PVD方法 3.4.1 离子镀★ 3.4.2 反应蒸发沉积 3.4.3 离子束辅助沉积 3.4.4 离化团束沉积 本章小结 1. 溅射、溅射法及其特点 2. 辉光放电原理、过程 3. 等离