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纳米二氧化硅粉体的制备课程设计

纳米SiO2粉体的制备课程设计 学 院:化生材学院 专 业:材 料 化 学 班 级: 姓 名:何 祥 涛 学 号:1020560126 指导老师:辛 建 华 纳米SiO2粉体的制备 摘要 3 关键词 3 引言 3 一、纳米SiO2粉体的制备 4 1.化学沉淀法 4 2.气相法 5 3.溶胶-凝胶法 6 4.微乳液法 6 5.超重力法 7 6.气相法 8 7.机械粉碎法 8 8.其他方法 9 小结 9 二、实验设计 10 1.方法选择:新型制备方法 10 2.实验条件 10 (1)配制15.00%NaCl溶液 10 (2)配制8.00%H2SO4 溶液 10 (3)配制NaCl+Na2SiO3溶液 10 (4)制备试验 11 (5)对应试验 11 3.测定物化数据 11 1).孔容积的测定 12 2).堆积密度的测定 12 3).比表面积测定 13 4).FTIR分析 15 5).XRD分析 15 6).TEM分析 15 7).SEM分析 15 8).粒度分度仪分析 15 4.试验结果与讨论 15 参考文献 15 纳米SiO2粉体的制备 摘要: 纳米二氧化硅在各行业中有着广泛的应用,是重要的无机粉体材料。到目前为止,纳米SiO2粉体的制备方法主要可分为干法和湿法两种,干法包括气相法和电弧法,湿法有沉淀法,溶胶-凝胶法、微乳液法、超重力反应法、和水热合成法等。另本文概述几种相关粉体制备工艺及其研究进展。并对纳米二氧化硅粉体的制备的方法提出一点相关展望。并从这些方法中挑一个结合课程内容及相关资料,设计一个纳米二氧化硅粉体的制备方法。 关键词:纳米二氧化硅,制备,方法,进展,展望 引言 纳米SiO2为无定型白色粉末,是一种无毒、无味、无污染的无机非金属材料,其颗粒尺寸小,粒径通常为20~200nm,化学纯度高,分散性好,比表面积大,耐磨、耐腐蚀,是纳米材料中的重要一员。由于纳米SiO2表面存在不饱和的双键以及不同键合状态的羟基,具有常规粉末材料所不具备的特殊性能,如小尺寸效应、表面界面效应、量子隧道效应、宏观量子隧道效应和特殊光电性等特点[1],因而表现出特殊的力学、光学、电学、磁学、热学和化学特性,加上近年来随着纳米SiO2制备技术的发展及改性研究的深入, 纳米SiO2在橡胶、塑料、涂料、功能材料、通讯、电子、生物学以及医学等诸多领域得到了广泛的应用。 一、纳米SiO2粉体的制备 经过收集资料,查阅一些教科书籍和文献,发现二氧化硅有各种形形色色不同的制备方法, 主要包括化学沉淀法、气相法、溶胶-凝胶法、微乳液法、超重力法、机械粉碎法等等。现在一个个简单介绍如下: 1.化学沉淀法 化学沉淀法是目前生产纳米二氧化硅最主要的方法。这种方法的基本原理是利用金属盐或碱的溶解度, 调节溶液酸度、温度、溶剂, 使其产生沉淀, 然后对沉淀物进行洗涤、干燥、热处理制成超细粉体[2]。 可以采用硅酸钠和氯化铵为原料, 以乙醇水溶液为溶剂, 采用化学沉淀法制备得到纳米SiO2 [3]。将去离子水与无水乙醇以一定浓度混合盛于三口瓶中, 加入一定质量的硅酸钠和少量分散剂, 置于恒温水浴中, 凋节至40±1℃, 搅拌状态下加入氯化铵溶液, 即出现乳白色沉淀, 洗涤, 抽滤, 100℃烘干,置于马弗炉450 ℃焙烧1h, 得到白色轻质的SiO2 粉末。所得SiO2 颗粒为无定形结构, 近似球形, 粒径30~50nm, 部分颗粒间通过聚集相互联结, 表面有蜂窝状微孔。 以水玻璃(模数为3.3)和盐酸为原料[4],在超级恒温水浴中控制在40~50℃ 左右进行沉淀反应, 控制终点pH 值5~6, 得到的沉淀物采用离心法洗涤去掉Cl-, 然后在110℃下干燥12 h, 再于500℃进行焙烧即可得到产品。制得SiO2 粒径在50~60nm, 比表面积大, 分散性好。 化学沉淀法具有原料来源广泛、价廉, 能耗小, 工艺简单, 易于工业化等优点, 但同时也存在产品粒径大或分布范围较宽的问题。 2.气相法 激光激活化学气相沉积(LICVD)[5]是制备纳米SiO2的有效方法之一。该方法比较容易制备出晶态和非晶态纳米粒子,具有清洁、无壁效应、粒度分布均匀,无黏结、产量高、可连续生产及应用广泛等优点。为了获得高纯超细SiO2粉末,工艺中利用SiCl4气相原料反应物激活后发生反应,基本化学反应方程式为: SiCl4﹢O2 → SiO2﹢Cl2 ↑ 为充分利用SiCl4 ,O2 与SiCl4一般混合比至少为4:1,在温度为1120~1200℃,氧气流量为0.5~1

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