钾石墨层间化合物结构初步研究.pdfVIP

‘炭素工艺与设备》第9卷，2002年，兰州，第117～127页 钾石墨层问化合物结构初步研究 黄四信 (兰州炭素集团有限公司) 摘要t 采用政室法制善7钾石墨层问化合耪，运用德拜照相法进行x射线分析，对1阶钾 石墨层问在常温下吸附Ht后的产物的蛄构进行了初步研竞，井在此基础上·对1阶高温分 解产物的结构进行7初步的探索． 1前言 由于石墨是两性物质(电离能一电子亲合力=4．8ev)，这就决定了它既可作为电子接 受体参加反应生成层间化台物，也可作为电子供给体参加反应生成层闯化台物，在石墨和 插入物质之间所发生的电子授受，不仅提高了层间化合物的稳定性。而且由于插入物质每 隔几层就有规律地插入石墨层间，形成叠层，这样在石墨的C轴方向上就形成了超点阵． 不同阶数的层间化合物可通过控制其生长条件而获得．o石墨层间化合物保持了碳的平 面层状结构．当反应物质插入石墨层间，石墨层的层间距将扩大，并使某一石墨层中的碳 原子和其它石墨层碳原子的相对位置也发生了变化。从C轴方向观察石墨碳原子具有AB_ AB……的排列，即隔一层重复。而插入钾生成的1阶化合物中，钾原子的相对位置可用。、 B、Y、6表示，即具有AaABAyA5……这样的排列。碳原子则全部在C轴方向重复，钾则位于 由碳原子构成的正六边形的中心．由于重复周期为4层，所以钾位于4、B、Y、6各自稍微错 开的位置上(图1)。C轴方向的晶格常数为石墨层间距的四倍(c=21．6A)… 本论文针对钾石墨层间化合物对氢气具有良好的吸附性能，为了使应用钾石墨层间 化合物贮芷氢气成为可能，霾们对l阶钾石墨层间在常温下吸附H。后的产物的结构进行 了初步研究，并在此基础上。对1阶高温分解产物的结构进行了初步的探索． 阶层间化合物的化学组成以及用x射线粉末衍射所得数据推导出的堆积顺序”1。 l阶 z阶 3阶 4阶 5阶 组成 C点 C2．K C3再C¨KCE拄 AB／BA／AABA／AABAB／BABA／AABA— 堆积顺序*AaABAYA6A BA／A *Rudorff和schultze(1954)的数据。 的结构是一致的，指出电荷传递符号的改变并不会引起结构的变化，还推导出各阶化合物 实物石墨层的堆积顺序和周期重复的距离t AaAI=lArA6A 1阶 c=21．60A AB／BC／CA／A 2阶 c=26．25A。 ABA／ACA／A 3阶 c；24．20A ABAB／BCBC／CACA／A 4阶 c=46．35A 并发现，当n4时，n阶化合物的阶是通过4阶一3阶一2阶一l阶的次序转化而来的。口3 钾石墨层间化合物的一般制法是在已抽真空并封闭的管子的一端放入钾，然后在另 一端放入石墨再封闭。分别将两端加热至t．、t2i筮择合适的t，、t。就可以合成阶数不同的层 间化合物。图2是将钾端温度t。固定在250℃，改变石墨温度t。则生成的“钾石墨的阶数”可 通过实测c轴的晶格常数来确定。由图可知，当温差(‘r。t。)小于70C时所制得的化合物为 1阶。温度差在106--150C时为2阶． 愿子砖配置情况 图l钾石墨C再中的钾 已．15 詈 uc 息 立 L_￡5 托c 2DC 3CC 4cc