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多晶硅工艺生产技术 姓名： 日期：2012年12月11日 目录 目录I 摘 要 II 第一章 多晶硅的认识和产品的用途1 一、什么是多晶硅1 二、什么是半导体1 三、纯度表示法1 四、多晶硅产品的用途1 第二章 多晶硅的生产方法2 一、锌还原法（杜邦法）2 二、四氯化硅氢还原法（贝尔法）2 三、三氯氢硅热分解法（倍西内法）3 四、三氯氢硅氢还原法（西门子法）3 五、硅烷热分解法3 六、改良西门子法3 第三章 改良西门子法工艺3 一、发展历程3 二、改良西门子法归纳起来有三大特点4 三、工艺生产化学反应方程式4 第四章 多晶硅生产的工艺过程4 一、合成部分4 1、液氯汽化4 2、HCL合成6 3、三氯氢硅合成8 二、提纯部分11 三、氢化还原部分15 1、还原工序15 2、四氯化硅氢化18 四、回收部分21 五、公用辅助部分27 第五章 多晶硅工艺的主要控制27 一、还原炉的自动和联锁控制27 二、尾气回收吸附塔的顺序控制32 第六章 结束语48 摘 要 多晶硅是硅产业链中一个极为重要的中间产品，主要用作半导体原料、最终用途主要是生 产集成电路和太阳能电池片等，多晶硅行业的大力发展 普及太阳能的利用和半导体的利用 有着很大的推动作用。本文主要是 多晶硅的工艺生产介绍，首先通过 多晶硅产品的认识和 用途进行了初步的了解，再通过 多晶硅的发展历程和当前多晶硅生产的主流工艺进行介绍， 进而通过 多晶硅生产过程各个工段的工艺和重点控制介绍的方法，详尽的阐述了多晶硅的 生产工艺之生产的闭环性和控制的复杂和稳定性。通过这样的说明，使得大家最终了解多晶硅 ，认识多晶硅和多晶硅的生产工艺，从而了解多晶硅生产过程。 关键字：多晶硅、改良西门子法、还原炉 第一章 多晶硅的认识和产品的用途 一、什么是多晶硅 我们所说的多晶硅是半导体级多晶硅，或太阳能级多晶硅，它主要是用工业硅或称冶金硅 （纯度98- 99%）经氯化合成 产硅氯化物，将硅氯化物精制提纯后得到纯三氯氢硅，再将三氯氢硅用氢进 行还原生成有金属光泽的、银灰色的、具有半导体特性产品，称为半导体级多晶硅。 二、什么是半导体 所谓半导体是界于导体与绝缘体性质之间的一类物质，导体、半导体与绝缘体的大概分别 是以电阻率来划分的，见表1。 表1 导体、半导体与绝缘体的划分 名 称 电 阻 率（Ω.Cm） 备 注 导体 ＜10- ＜0.0001 Cu, Ag, AL等 4 半导体 10- 0.0001~1000000000 Si, Ge, GaAs等 4~109 绝缘体 ＞109 ＞1000000000 塑料，石英，玻璃，橡胶等 三、纯度表示法 半导体的纯度表示与一般产品的纯度表示是不一样的，一般产品的纯度是以主体物质的 含量多少来表示，半导体的纯度是以杂质含量与主体物质含量之比来表示的。见表2。 表2 纯度表示法 1% 1/100 1 2 百分之一（减量法，扣除主要杂质的量后）