镀膜基础知识简介.pptVIP

Ultimate in Vacuum since 1952 * 第*页 爱发科光电薄膜科技（深圳）有限公司 The Apple iPhone 一、成膜技术简介 二、真空磁控溅射原理 三、ITO导电薄膜简介 四、ITO导电玻璃生产工艺简介 内容 1、真空镀膜 真空镀膜技术是指将待镀金属、非金属或塑料靶材安装于真空 室内，采用加热或离子轰击等方法加热或轰击待镀材料，使待镀材料蒸发或被轰击出来并飞到靶材对面的基板上物理组合或化学反应成所需薄膜的一种成膜技术 2、几种常见的技术 物理气象沉积(Physical Vapor Deposition)、化学气象沉积( Chemical Vapor Deposition)、电子束蒸发(E-Beam Deposition ) 、等离子体辅助CVD (Plasma Enhanced CVD )、 溶胶－凝胶 (Sol-Gel)、 喷雾热分解(Spray Pyrolysis) 、 分子束外延(Molecular Beam Epitaxy)、脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)、 金属有机化学气相沉积(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)、 磁控溅射(Magnetron Sputtering) 、原子层外延(Atomic Layer Epitaxy)、 化学浴沉积（Chemical Bath Deposition）| 成膜技术简介 设备特点: 采用ULVAC的设计图纸、制造工艺和品质管理 结构上采用真空内回旋、移动阴极、非接触磁导 向等ULVAC核心技术 机加工基本在ULVAC集团内完成，品质保证 配置国际品牌的真空泵、电源、伺服电机、 控制＆测量单元等主要零部件，零部件进口比例 高达95% 打造具备国际水平和绝对竞争力价格的生产设备 有效装片面积为 H1200xL1500(mm)、 370x470玻璃可装9片、400x500玻璃可装6片、 550x650玻璃可装4片、 730x920玻璃可装2片 技术优势： ULVAC成熟的ITO/MAM/SiO2镀膜工艺有助 于客户生产导入期的缩短 ULVAC多功能研发技术优势有助于客户电容 屏技术更新与市场跟进 ULVAC深圳的样板线可提供前期的客户打样、 镀膜技术培训等，投资风险小 STD-1200（真空内回转） 真空体系全貌 卸片台局部图 大气体系全貌 真空体系B面局部图 真空体系A面局部图 STD-1200c (UOT 触摸屏样板线) 真空获得设备 真空室 低真空泵：旋片泵、滑阀泵 中真空泵：罗茨泵 高真空泵：分子泵、扩散泵、低温泵 抽气速率 极限压强 最高工作压强 最低工作压强 最大启动压强 最大排气压强 STD-1200c用泵组 LR系列干泵 共轭双转子 同步旋转 正反旋转 高速旋转 转子间隙0.1~0.3mm 无油 抽速大 罗兹泵工作原理 动片超高速旋转 动片和静片相间排列 动、静片倾角相反 气体分子从动片获得 动量，动量方向几率 偏向一侧 涡轮分子泵/复合分子泵 牵引泵--静壁和动壁 分子泵工作原理 旋片泵工作原理 吸气口 排气口 转子/油密封 滑片/弹簧 2000C时油蒸汽压30~50Pa，平均速度达到超音速 油分子质量比气体大很多，在碰撞中几乎不改变运动方向 扩散泵工作原理 载车滚轮 上部磁铁 ULVAC设计 1 设计原理 采用磁铁间上向吸引原理。 2 特点 减少基片架与滚轮的摩擦力，从而减少粉尘、颗粒的产生。有利于获得高品质膜层。 基片架两侧没有侧部磁铁等干涉物，避免基片架高速进入腔体时的基片架与腔体磁铁入口部干涉。 STD-1200c设计特点（2） 基片架传送结构 传动系统-磁流体 什么是磁流体 磁流体又称磁性液体，是一种对磁场敏感的可流动的液体磁性材料 磁流体组成示意图 磁流体密封原理 是利用磁流体对磁场的响应特性而实现的。如图所示，磁流体密封件由永磁体，转轴，磁极，磁流体和磁气回路组成。由于磁极齿尖处，在密封间隙内形成一个“O”型液体密封环，将密封间隙充满达到密封目的 磁控溅射原理 直流电源 + + ― 真空泵 约0.1~0.5Pa 工作气体 Ar+ 离子 In Sn O 原子 电子 N N S 基板 1. 起辉：开靶时，电源给靶加载瞬间的万伏高负电压，高电压将靶面的Ar原子电离，形成Ar+离子和电子，电子再不断撞击Ar气，形成更多的Ar+离子和电子组成的等离子体。 2. 溅射：Ar+受到靶负电场的吸引，高速冲击靶面，将靶材粒子以原子形式撞击出表面，靶材粒子飞