低温冷等离子体的诊断研究.pdfVIP

低温冷等离子体的诊断 林播训 石旺舟 王 洪 林漩英+ 姚若河+ 余楚迎十 (汕头大学材料科学技术研究所，汕头，515063) +(汕头大学物理系，汕头，515063) 摘 要 等离子体诊断是研究等离子体的空间反应 粒子成分和能最分布，光谱和质谱则用于诊断稳态、 过程、基片表面反应过程、优化刻性和沉积工艺的重 亚稳态的活性基团和离子。本文结合我们自己的工 要问题。本文综述了低温冷等离子体的诊断技术，结 作，在一般综述的基础上，着重分析各种诊断技术所 合我们自己的研究工作，着重分析了为适应研究的深 碰到的各种技术难题、解决办法和尚待解决的间题. 入和应用的发展而在工作气体、放电机和激励模式等 方面不断改进和更新的等离子体诊断过程中，所碰到 2 荷电粒子参数的测量 的各种困难及共解决办法和尚待解决的问题。 关键词 低温冷等离子体 诊断技术 荷电粒子 早在本世纪20年代，人们就开始利用Langmuir 中性基团 探针测量的I一V曲线获得等离子体的荷电粒子参 数。几十年来，随着低温冷等离子体在微电子工业和 1 引 言 新型光电薄膜材料和器件等领域上应用的不断扩展， 促使放电气体和等离子体的激励模式的不断更新， 低温冷等离子体刻蚀、沉积和表面改性的工艺技 Langmuir探针的诊断技术也随着不断的改进，抑制 术广泛应用于微电子工业、太阳能电池等光电能量转 和排除了各种新出现的干扰。至今，Langmuir探针仍 换装置、挂壁式彩色电视和计算机终端等大面积平面 然是探测等离子体荷电粒子参数的主要手段. 显示、录音录像的 “磁”记录系统以及用于制备金刚石 膜、类金刚石膜和超导体膜等新型薄膜材料. 2.1探针射频干扰的抑制 光刻工艺的质量和薄膜的性能品质与等离子体 参数密切相关.低温冷等离子体是一种非平衡态的等 Langmuir探针用于诊断射频辉光放电等离子 离子体，电子的温度可以高达几十万度，而离子、分 体，探针的直流壳层电压被感应了一个随机的交流信 子、原子等重粒子的温度则近似于或略高于室温。电 号，使 卜V曲线发生严重的畸变，成为探针诊断技术 子的能量接近麦克斯韦分布，不同能量的电子与气体 的一大难题— 射频干扰.射频辉光放电成为PCVD 分子碰撞发生了激发、分解和电离等各种不同的反 薄膜淀积和现代微电子光刻的主要工艺技术以后，抑 应.因此，低温冷等离子体中除了具有一定密度的电 制射频干扰就成为众所关注的课题。近十几年来，在 子、离子等荷电粒子外，还存在着分子、原子、各种基 关于抑制射频干扰的大量学术论文C-x1中，最典型 态和激发亚稳态的基团等中性粒子。电子和离子的密 的是英国皇家信号和雷达研究所与牛津大学使用]’{ 度和能量分布、基态和亚稳态的活性基团类型及丰度 和美国斯坦弗大学B[I所提出的两种类型。前者从射频 分布等等离子体参数，是由工作气体的种类、压强和 功率源辆合一个与探针壳层上射频干扰同相位等幅 ‘ 流量、气体放电的激励模式和反应室的结构和几何尺 度的信号，叠加到探针的直流偏置电压上，如图1所 寸等各种因素所决定的，很难用一种统一的理论模型 示;后者是在探针与地之间插进一个LC谐振回