微光学从工艺技术到应用.doc

《Microoptics: From Technology to Applications》 （微光学：从工艺技术到应用） 一、出版情况 《微光学：从工艺技术到应用》2004年由德国的Springer出版社出版，由2002年在德国举行的微光学会议与Heraeus 会议的报告集合而成。编者为德国的Hagen大学的Jurgen Jahns与 Mannheim大学的Karl-Heinz Brenner，该书319页。 二、内容简介 对于许多领域光学是一重要技术，在许多大型技术领域，光学元件是重要的基石。在二十世纪六七十年代，激光与光纤光学的出现使得通讯世界得到巨大发展。就目前与未来，光学可以应用于许多其他领域，如信息技术（信息的传输、处理与存储），健康护理与生命科学，传感，照明设备与制造业等等。研究也明显指出了在材料、设备与系统方面，这些应用领域的发展与潜在光学技术的发展的关联。 微光学，类似于微电子技术。微电子，元件的小型化与集成化开辟了应用的新领域并使得这些领域几十年来持续不断地发展。在其他领域的小型集成化，如光电子、光学领域与机械领域，也许能提供一类似的潜能。由于近年来先进制作技术的发展，微光学与微机械元件的制作变得可行，如硅微机械系统、微透镜阵列与垂直腔表面发射激光器。同时对高性能的实践性光机械系统的需求在不断增长，在一微机械系统中的微电子与微机械元件的组合成为研究与发展的重要领域。通过整合微光学、微电子与微机械元件在一系统中，甚至一更广泛的应用，包括光学传感、通讯系统等等，成为可能。 微光学领域包括波导光学与自由空间光学，尽管它们的光传播机制与实际应用不同。基于电磁波的辐射属性，光信号提供了更大范围的应用价值。高带宽性应用于无线电通讯，非物理接触的信息与能量的转换极大地应用于光学数据的存储与光学材料的处理。其他应用，如在传感方面，相干光学的干涉测量的准确性已被应用并在进一步探索中。 近几年来，技术与元件的发展极大地促进了微光学的发展。尽管在这一领域仍然需要进步，但是系统方面变得越来越重要。问题，如模块化与不同种类技术（如半导体、玻璃、塑料）间的整合也变得越来越重要。另一重要问题是标准化的分界面的定义，要求不同元件与系统自由结合。 因此，我们引入了基础科学的新的方面。例如，小型化系统的波动光学的设计，混合积分的热量方面与微元件与系统的新技术的发展。同时过去的十几年来也发生了变化，研究与发展的重要性逐渐从元件的优化到系统的优化，人们开始考虑可制性、实用性、使用寿命与花费。由于这些，新的问题，如打包、容忍系统的设计等等变得越来越重要。 光刻技术形成了微光学所有领域的基础。我们区别了掩模光刻与集成线路的制作与用光束或电子束的直写技术。传统的掩模光刻用的是可见光或近紫外光照射，这一技术很适于量化衍射微光学元件与阶梯相位浮雕的制作。不同于电子学中结构的高度在纳米范围，光学的结构通常要求更深剖面。对光学衍射元件来说，结构的高度要求在几个波长的级次。对折射元件与光机械结构来说，剖面深度需要几百个微米。对于深结构的实体（realiation），我们需要应用具有特殊刻胶(resist)的光刻技术。许多高纵横比的结构需要用LIGA技术来实现，同时在此书中我们也进行了讨论。另一技术挑战是具有亚波长的横向结构的制作，包括所谓的零级光栅与光子晶体。最后一挑战是三维结构的制作，不同于可以用干涉技术来实现的周期性的三维结构，非周期的三维结构要求新的技术方法。用于材料制作的超短激光脉冲的激光直写技术现正在研究中。 在本书中，我们提及了多种新的技术。Kley, Witting 与Tunnermann提出并证实了用于光刻制作的各种任务与技术。在书的第一章我们讨论了传统的二元光刻，接下来讨论了与之相似的其他形式或灰阶刻蚀。Schnabel讨论了由光刻制作产生的图样的特殊方面，强调数据经济学，尤其对于直写技术。 在开始的两章介绍了一般的光刻制作后，我们接下来继续研究微光学的建模与模拟。对于自由空间的光学元件与系统来说，Zeitner, Schreiber 与Karthe描述了不同的方法。我们讨论了光线光学和波动光学方法，具有小直径或非常精细的结构的建模元件的所需的修正。下面的两章致力于波导光学的建模。首先，Marz给出了在光学中的计算机辅助工程的一个总体的概述，描述了不同的建模方法，如特征值分析法、时域法与频域法等。接下来，Pregla介绍了线法与半分析技术，显示了对于周期结构（如布拉格光栅）可以节省时间的特性。 既这些理论的学习后，我们现在步入技术领域与用于制作深结构的LIGA方法，Frese, Mohr, Last 与Wallrabe在此章中阐述了这一有趣的技术与它在微光学中的应用，Frese介绍了这一技术并把波导光学元件与自由空间光学元件作为例子。制作深结构