光电子学的未来.ppt

单光子作为信息载体 — 单量子态不可克隆定理 偏振分束器的作用 – 光波 偏振分束器的作用 – 光子 偏振分束器的作用 – 光子 光子晶体特性 5.纳米尺度光学效应 ?! 光子晶体的发展进程 ? 1987年提出光子带隙(PBG)概念 ? 1990年PBG计算机论证 ? 1991年微波PBG实验论证 ? 1996年第一根TIR光子晶体光纤 ? 1997年第一根PBG光子晶体光纤 OFC 情况 论文： 2001 ：6 ， 2002：15 国家： 2001 ：4 ， 2002： 8 ? 1993年制造出第一块半导体三维光子晶体 ? 1998－2000年光子晶体光纤研究热 ? 2000年第一家光子晶体光纤公司成立 ? 2001.10. Photonics Nanostructure Materials and Devices 国际会议在 San Diego召开 光子晶体－交叉学科发展的产物 半导体 金属 石英 有机聚合物 液晶 生物蛋白 材料 微波无线 光通信网络 量子信息 信息 生物 物理 近场光学 纳光子学 凝聚态物理 二维光子晶体 (光子晶体光纤－PCF ) 百花争艳 PCF Polymer GLS glass 掺Yb PCF 类型 晶格：三角空气柱包层＋Silica柱芯 原理：低等效包层折射率－全内反射 特性：次高阶模截止带宽内单模传输 折射率导引光纤 （TIR-PCF〕 光子带隙导引光纤 （ PBG-PCF〕 晶格：六角空气柱包层＋空气柱芯 原理：光子带隙限制局域单模传输 特性：带隙窗口(数?m)内单模传输 0.8 mm Solid rod Hollow tube PCF 制备工艺 30 mm 16 mm 20 mm 0.03 mm 20 mm 1 mm 1 mm 1 mm 玻璃毛细管聚束熔垃法 PCF 制备工艺 玻璃毛细管聚束熔垃法 ? =2?n2/(?Aeff)： n2 ? , Aeff ? ? ? ? ? ? =1.6 mm SF57 Schott glass: n = 1.83(633nm) ,1.80(1.53?m)，? = 0.7dB/m (633nm) , 0.3dB/m(1.53?m) n2=4.1?10－19m2/W (比纯SiO2大20倍)，Ts= 519oC (softening temprature) ? =125 ? m PCF 制备工艺 玻片－芯组装模压法 ? = 550W－1km－1（1550nm）( 比SMF大500倍，比普通PCF大15倍） Single mode transmission at 633nm and 1550nm PCF 制备工艺 高光学非线性PCF Hole diameter: 2.3?m Hole spacing: 4.3?m Core diameter: 10.5?m PCF 制备工艺 溶胶－凝胶（Sol-gel〕法 PCF 制备工艺 带隙宽度可调PCF Holes filled with high n liquid : PBG n589nm=1.80 ? 2000-1 band gap 3dB band width for gaps=1400nm Holes filled with air: TIR 单模有机聚合物光子晶体光纤 PCF 制备工艺 Near-field pattern 1. 宽带低损单模传输 458 nm 458 nm Interstitial holes ? The relative intensities of the six lobes was varied and nearly equal. Far-field pattern Near-field pattern 528 nm 528 nm ? No other mode field patterns are observed confined to defect region. 633 nm ? No confined mode could be observed at 633nn. PCF 特性 应用: 大模场面积－高功率激光/放大器 小模场面积－非线性光学器件 2. 可变的光学非线性 ? 传导模数与 ? /?0无关，只决定于. d/? Aeff : 1? 1000?m2 by changing ? PCF 特性 ? =180?m 2? =22.5 ?m d = 1.2 ?m ?= 9.7 ?m d/?=0.12 ?0 458 nm 近场光斑 ?h= 0.0065 10?m 3. 灵活的色散特性 应用：色散补偿/色散管理/光孤子技术等 PCF 特性 ? 大的正色