薄膜材料与技术-5 课件.pdf

薄膜材料与技术 （5 ） 李美成 2006秋季学期 1 1 第五章溅射镀膜法 5.1 溅射镀膜的特点 5.2 溅射的基本原理 5.3 溅射镀膜的类型 5.4 溅射镀膜的膜厚均匀性 薄膜材料与技术 薄膜材料与技术 2 2 所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面 “溅射” （靶），使固体原子（或分子）从表面射 出的现象。 射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射 原子。 用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子 或中性粒子，因为离子在电场下易于加速 并获得所需动能，所以大多采用离子作为 轰击粒子。该粒子又称入射离子。由于直 入射离子 接实现溅射的机构是离子，所以这种镀膜 技术又称为离子溅射镀膜或淀积。 离子溅射镀膜 薄膜材料与技术 薄膜材料与技术 3 3 与薄膜沉积过程相反，利用溅射也可以 进行刻蚀。淀积和刻蚀是溅射过程的两 种应用。 溅射这一物理现象是130多年前格洛夫 （Grove ）发现的。 广泛用于各种薄膜的制备。如制备金 属、合金、半导体、氧化物、绝缘介质 薄膜，以及化合物半导体薄膜、碳化物 及氮化物薄膜，乃至高Tc超导薄膜等。 薄膜材料与技术 薄膜材料与技术 4 4 5.1 溅射镀膜的特点 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比： 溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比： 任何物质均可以溅射。尤其是高熔点、低蒸气 任何物质均可以溅射。尤其是高熔点、低蒸气 压元素和化合物。不论是金属、半导体、绝缘 压元素和化合物。不论是金属、半导体、绝缘 体、化合物和混合物等，只要是固体，不论是 体、化合物和混合物等，只要是固体，不论是 块状、粒状的物质都可以作为靶材。 块状、粒状的物质都可以作为靶材。 由于溅射氧化物等绝缘材料和合金时，几乎不 由于溅射氧化物等绝缘材料和合金时，几乎不 发生分解和分馏，所以可用于制备与靶材组分 发生分解和分馏，所以可用于制备与靶材组分 相近的薄膜和组分均匀的合金膜，乃至成分复 相近的薄膜和组分均匀的合金膜，乃至成分复 杂的超导薄膜。 杂的超导薄膜。 此外，采用反应溅射法还可制得与靶材完全不 此外，采用反应溅射法还可制得与靶材完全不 同的化合物薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物 同的化合物薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物 和硅化物等。 和硅化物等。 薄膜材料与技术