TiN膜上镀金工艺的研讨.pdfVIP

TiN膜上镀金工艺的研究 李辉勤 熊毅 (北京科技大学腐蚀工程系，北京100083) 姚永生 (北京环境工程研究所，北京100083) 摘 要 本文研究了在多弧离子镀氮化钦薄膜上进行溶液镀金之前的浸蚀、活化等预处理的 操作条件及其对镀金效果的影响。微观粗化氮化认膜和强化表面活性，是在氮化钦薄膜表面 上进行溶液镀金的关键。而中间镀镍层和镍层厚度的控制，是提高镀金层结合力和保证金层 受到磨损时仍能保持金色的关键。经过多次实验表明，氮化钦膜表面通过活化处理、化学镀 镍中间层等方法获得的TiN+Au装饰镀层具有良好的结合力、耐磨性和金的本色。 关键词 氮化钦 化学镀镍 电镀金 I前 言 氮化钦膜作为耐蚀镀层得到)”泛应用之后，人们也看到了它在装饰镀方面的潜力。尽管 仿金镀氮化钦膜具有耐蚀性好、成本低等优点，但在色泽上与纯金相比存在明显差异，露出 顺品的俗态，这是仿金镀氮化钦难以克服的色度问题Ill.之后，人们提出TiN+Au复合膜， 这可使石者取长补短。即使TiN上的金镀层受到磨损，但当露出TiN时，磨损就会基本停比， 而残留在氮化钦凹陷处的金仍可将TiN覆盖而使表面保持纯金的颜色Rl，同时还可竹约金。 在批量生产TiN+Au复合膜装饰件中，通常用PVD镀金并且效果很好。但用此方法镀金的 土要问题是，不少金附在器壁上，导致浪费严重，成本仍很高。为此，本文土要研究了在TiN 膜上溶液镀金的}艺，以达到即能Jf约用金，又能保证镀层质星的有效的装饰镀方法。 2.实 验 试验材料选用市售抛光不钢板(1Cr18Ni9)。在此板上用TX-3A9.多弧离子镀膜机制备TiN 膜。其 艺「参数为:本底真空6X10-Pa,氢气分压0.3Pa,氮气分压0.2Pa，弧电流75Aa 膜厚约为、UM. TiN膜上化学镀金1艺:TiN膜试样一化学浸蚀一活化一化学镀镍一化学镀金一电镀金。 溶液组成及操作条件: t 浸蚀液一氢氟酸(40%HF)250ml/L:fi肖酸(70%HN03)250ml/L;室温;时间30S。 困 t +N化液一氯化把2.5g/L;盐酸(37%HCI)20ml/La 吞 . . . 化学镀镍液一硫酸镍30g/L;次h磷酸钠10g/L;柠檬酸钠12.5g/L;酷酸钠5醉;硫 吕 日 . ll}1mg/L;pH值4.5--5.0:温度90-980C:时(}1分钟。 . ‘ . ， 化学镀金液一氰化金钾5g/L;柠檬酸钠50g/L;氯化馁75g/L;氯化镍15叭 :硫脉1 mglL;pH值7-7.5;温度60-70℃:时间10分。 电镀金液 一氰化金钾10g/L;柠檬酸钾50叭:柠檬酸5妙:磷酸一氢钾20叭;草 酸钾1-2g/L;pH值4.5;电流密度0.2Aldm;温度45--50℃;时间10分。 1 镀层性能测试一划痕法测试附着力;显微硬度计测试镀层使度;在0.5kg载荷F用牛皮 、 明 面往附摩擦2000次测试耐磨性及用TC一PG型色差仪分析镀层颜色。 净 1 用 月