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真空等离子体装备技术及应用
and of
Developmentapplicationvacuum／plasma
instrument
processing technology
孙卓倪晟Y．Sun
N．ShenY．Sun
Z．Sun
上海纳晶科技有限公司 华东师范大学纳米功能材料和器材应用研究中心
上海市中山北路3663号200062
Co．．Ltd．NanotechChinaNormal
ShanghaiNanokingTechnology Center,East UniversityNorth
ZhongshanRd．3663，Shanghai200062，China
摘要：本文从真空等离子体装备技术及其应用进行了综述。重点对等离子体沉积(如磁控溅射，过滤阴极电弧
沉积，等离子体化学气相沉积)，等离子体刘蚀(电容式和电感式)及等离子体表面处理技术进行了叙述，同时介绍了
用于制备纳米材料的一些新技术。
关键宇：真空等离子体薄膜蚋米材料
Abstract：The of andrelated isreviewed．Forlow
developmentpl勰m8processingsystem application temperaturepl酗·
maforthinfilm arc enhancedchemicalde-
processingincludingmagnetronsputtering，vacuumdeposition，plasma vapor
treatment hasbeen
and discussed．
position，plasmaetching technology
mmB
words：vacuumthin nanostmctures
Key plasma
一、引 言
真空等离子体表面技术的应用在西方发达国家已有半个多世纪的历史，而且受整个工业技术发展的带
动已达到相当的水平，年产值达到很大的规模(上千亿美元)，形成了一个成熟的朝阳产业。随着等离子体
在真空表面工艺(镀膜或刻蚀)的广泛应用，离子源技术的地位不断加强，很多原来用于空间卫星的离子源
被移植到真空表面领域。特别是近年来，在国防装备、光电子、半导体、信息等高技术领域，得到了越来越广
泛的应用。在某种程度上可以说，真空袭面技术水平的高低已经越来越深的影响到一个国家整体科技的发
展水平。等离子体技术是真空等离子体表面处理的关键性核心技术。而且随着现代高科技的发展而不断发
展，国外每年都有系列的有关高科技含量产品投放市场．在我国，由于受到关键技术的制约，此类国产设备
在高端产品上出现空白，同时也限制了传统产业的改造和升级。
等离子体是一种正离子、电子、中型粒子(原子和分子)和光子的混合体。它总体上呈电中性且可导电。
在宇宙中，超过99．99％的物质是等离子体状态。因此，等离子体被称为除固、液、气三态之外的物质第四态。
等离子体还可被分为冷等离子体(coldpl够ma)和热等离-y体(Ilotplas：ma)。冷等离子体中粒子的能量只有几个
电子伏特，被应用在大多数的薄膜技术中。热等离子体中的离子能量有几千个电子伏特，比较典型的例子有
核聚变和一些天文物理学中的现象。在多数情况下，等离子体中电子温度要大于正离子的温度，冷等离子体
中更明显。在现有真空等离子体设备中，冷等离子体的应用更为常见。
等离子体现在一般应用在以下三个主要的
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