胶束法制备有序金属纳米颗粒阵列研究.pdfVIP

张兴旺等：胶束法制备有序金属纳米颗粒阵列 胶束法制备有序金属纳米颗粒阵列+ 张兴旺，屈 盛，陈诺夫 (中国科学院半导体研究所材料与器件重点实验室，北京100083) 摘要： 利用双亲嵌段共聚物PS-b—P2VP胶束卣组了其相关特性。 装的方法，在硅村底表面彤成一单层六角有序的负载 2实验 金盐的反胶束阵列，氧等离子体刘蚀能在保持颗粒有 序性的同时。完全去除聚合物并使金盐还原为单质金， 苯乙烯一2一乙烯毗啶双亲嵌段共聚物(PS—block— 从而在衬底表面得到裸露的金纳米颗粒。这一方法能 在多种不同封底上裁备各种金属纳拳颗粒阵列，它们 段t亲水)组成，在一定浓度下于非极性的甲苯溶液中 具有颗粒尺寸均匀、六角有序分布的优点。颗粒的大 缔合形成以P2VP为内核及以PS为外壳的球形反胶 小(1～20nm)和间距(30～200nm)可通过嵌段共聚物束结构。这种胶束有亲水的内核和疏水的外壳，与在 的链长、金盐的浓度及样品的提拉速度进行调控。 水溶液中的情况刚好相反，故称为反胶柬。由于可溶 关键词：腔束：纳米颗粒；自组装；等离子体刻蚀 性外壳的存在，这种高分子胶束在甲苯中很稳定。向 中圈分类号：TGl4 文献标识码：A 溶液中添加金属盐(如HAuCh)，这些金属盐可以通 文章编号：1001-9731(2006)增刊一0205—03过络合物或质子化的方式与P2VP嵌段相互作用，形 成金属盐负载的反胶束。将一清洁平滑的硅衬底垂直 1引言 地浸入含有胶柬的甲苯溶液中，再以一恒定的速率将 信息技术的飞速发展推动了电子器件的不断檄蛩 村底垂直拉离溶液，于是溶液中的金属盐负载的胶束 化，使得纳米材料学已经发展为当前最具吸引力的研 转移到衬底表面，由于溶剂的挥发和毛细力的作用，最 究领域之一。对于纳米科技研究，传统的技术路线采 终在衬底表面形成一单层六角有序的负载金属盐的胶 用的是“自上而下”的方式，即通过微加工或固态技术， 柬阵列。 不断在尺寸上将功能产品微型化。与之对应另一种 为去除有机聚台物基质，金属盐负载的胶束阵列 “自下而上”的技术路线是以原子、分子为基本单元，根 被置于氧等离子体中刻蚀，刻蚀实验在PE3100微波 据人们的意愿进行设计和组装，从而构筑成具有特定 等离子体刻蚀系统中进行，刻蚀气氛为氧气，工作气压 功能的产品。预计到2010年，通过目前微加工方式在 硅集成电路上的线条宽度和cMOs电路的设计原理子体不仅能完全去除有机聚合物基质，还可使金属盐 将达到极限。要跨越量子效应障碍，必须考虑采甩其 还原为单质金，从而在树底表面得到有序排歹n的“裸 MDT 它的方式使工业生产适应新的设计原理和纳米尺度的 露”金属纳米颗粒。纳米颗粒阵列的形貌在NT 精度标准。因此，“自下而上”的制作方式伴随着纳米 P47原子力显微镜(AFM)上以轻敲模式测量，利用X 科技的迅猛发展将愈来愈受到重视“’21。 射线光电子谱对纳米颗粒的成份和化学状态进行了分 作为一种重要的“自下而上”方式．利用各种大分 析。 子进行的化学自组装技术近年来吸引了人们的广泛关 3结果与讨论 注。和表面活性剂～样，嵌段共聚物在选择性溶液中 也能够聚集形成具有棱壳结构的胶束。依据这一原 利用反胶束方法制备的纳米颗粒阵列，其颗粒大 小和问距可以通过嵌段共聚物的链长、金属盐的浓度 理，人们开发出了利用P$