大气和真空等离子喷涂Ti涂层.pdfVIP

·58 · (陶瓷1程增刊》 1999年11月 蟾 大气和真空等离子喷涂Ti涂层 郑学斌 季晰 黄静琪 丁传贤 (中国科学院上海硅酸盐研究所 上海 ·200050) 摘 要 应用大气和真盆等离子喷涂技术制备1、涂层，对其表面和截面形貌、相组成、表面化学组成以及结合强度进 鹰 行观察和测定结果表明大气喷涂Ti涂层表面有一些裂纹，而真空喷涂Ti涂层没有明显的裂纹.XRD图潜显示，在 大气喷徐过程中，Ti发生咬为严重的氧化，氧化产物为Ti0这是涂层产生裂纹的主要原因。在真空等喷涂过程中，Ti 没有发生明显的氧化。XIs对涂层表面的化学成分分析表明，无论是大气喷涂层还是真空喷涂涂层，表面均有Tio, 和TiN。真空喷涂Ti涂层与大气喷涂r涂层相比，与基体的结合更加良好。对大气和真空喷涂Ti涂层进行比较的结 果表明，真空等离子喷涂是制备Ti涂层的更理想的方法。 .}Oim Ti涂层 真空等离子喷涂 大气等离子喷涂 涂层，工作原理见文献 [al,Ti原始粉末的粒径为 1 前 言 75wm一125Rm。在VPS和VPS喷涂中，均以氢气 和氢气作为等离子喷涂气体。喷涂参数列于表to 等离子喷涂.ri涂k、具有良好的生物相容性，已 Ti涂层的表面和截面形貌由扫描电子显微镜 作为骨置换材料被应用于临床骨科手术”1,Ti涂层 还具有较好的耐腐蚀和耐磨性能，在一些需要耐 (SEM)观察而得。采用X射线衍射仪(XRD)检测涂 腐蚀和耐磨部件的领域也得以应用’_1，但是，在高于 层的相组成口涂层表面的化学组成采用x射线光电 子能谱仪 (XPS)检测。涂层与基体的结合强度以 500℃的环境中，ri，很书易与O-H=,Nz、以及C02反 应。由于等离子射流ig度极高，在大气中进行等离 ASTMC一633)方法侧定。 子喷涂时，Ti会pi周围气氛发生反应。喷涂过程中 表1等离子喷涂参数 产生的反应产物往往会降低涂层的延展性，并导致 自口脚口口臼口喇脚曰. . APS VPS ‘， 材料裂纹的增多。相日于大气等离子喷涂，真空等 等离子气A^r/slpm 60 40 离子喷涂具有等离子身!流速度快、温度较低、气氛 等离子气H_/slpm 5 10 可控等特点，可用来J:涂易于氧化的材料。采用真 喷涂距离/mm 110 0 0 3 空等离子喷涂技术可以减少喷涂过程中T与‘环境 压力 /mbar 0 5 1 。 载气 Ar/slpm z 6 0 5 气体的反应。引 电流 /A 650