YCo合金膜制备方法探索研究.pdfVIP

Y-Co合金膜制备方法探索 何山”‘，李坤兰11【，邓国华’11，刘冠昆(2) (1)信息产业部第五研究所;2)中山大学化学与化学三程学院广州 510610) 摘 要:随着现代化技术的需要，电子产品对其三防性能的要求越来越高， 怎样得到沉积状态更好的稀土合金膜显得十分重要.尽管从七十年代就开 始了稀土合金膜的电沉积，但要得到沉积状态好的产物，这方面的研究还 有着较大的问题 目前，这一过程主要通过真空镀的方法来完成.为此， 有必要研究利用电沉积法来制备稀土合金膜，以利于其推广和降低成本. 本文研究了在铜电极上进行了恒电位电沉积和脉冲电沉积法制备Y-Co合金 膜，结果表明，利用恒电位法可制得Y含量较高的Y-C。沉积膜;而利用脉 冲电沉积法可获得表面状况佳，抗氧化性能好的沉积膜，但合金膜中Y含 量较低. 关键词:Y-C。合金膜 脉冲电沉积 恒电位电沉积 稀十及其合金)’泛应阴于磁、光、电ha,Ir材料领域。作为新材料来使用的稀土合金膜， 要求其具有 1)良好的抗化学腐蚀特性:2)具有抗氧化性能;3)良好的物理、机械 性能。而沉积层质童的好坏a.接影响到沉积层的性能。目前上要通过真空镀膜等方法来 制各所需的稀土合金膜，但这些方法都存在着设备复杂、费!月高等缺点。相比之下，利 用电化学沉积法不失为一种好方法。但由于稀土金属的活泼性，其在水溶液中的电化学 沉积很困难，故通常在非水体系中进行制备。现今人们已石熔盐体系中电沉积出Yb- Ni,Dy-Ni等合金D-21,在有机溶液体系中电沉积制各WiY,Nd-Fe,Nd-Ni,Y- Co等合金13-61，但所得物沉积状态都不能令人满意。 本文利用恒电位电沉积法、脉冲电沉积法，研究了室温 卜在二甲基亚讽 (DMSO) 中电沉积Y-C。合金膜。研究表明:室温 卜在DMSO中，在铜电极上进行脉冲电沉积， 可得沉积形态良好，具有一定抗氧化性的非品态Y-C。合金膜 一 实 验 本实验所)11无水YCI:系1+JY203(--99.99%)与HCI(AR)反应后真空脱水制得171, DMSO(AR)经用0.4nmiL化分f筛平1!减]1、蒸L/te处理181;支拍电解质LiC104(AR)经 真空脱水处理。 实验采用三电极体系，一1作电极(WE)为Cu(99.9%,0.05cm2)，辅助电极((CE)为Pt (1.3cm2)片，参比电极(RE)为用双盐桥系统连接的饱和甘汞电极((SCE)。文中所用的电势 均是相刘于SCE的电协。实验在A,IC氛 卜进行测试 使用HD-IA划低频一超低频函数发’i_器、HDV-7C品体管植电位仪、3086X-Y F}-;3r1记录仪进ii电化学测4cl:和恒电位电沉积。以MD一]型脉冲电镀调解器进行脉冲电 沉识。阴极还原r=物川DIMAX-3AX一射线衍射分析仪确定物相组成，以OforxS-520 ii子扫描显微镜及能浩仪分析合金的形态及组成，济液中的YC13含饿用EDTA络合滴 定法测定 二、结果与讨论 lYC13-COC份LiCI04-DMSO体系在铜电极的循环伏安图 -1 遥{!为Y03-COCI2-LiClO4-DMSO体系在 Cu电极上的循环伏安曲线。从图可以发现， 0.呀mA 丫C13-CL)C12-LiC104-DMSO体系在CuL认极上 的还原过程分两步进行，起峰电位分别为一1.75 V,-2.30V 其中，一1.75V出现的峰应为Co2+ 的还原峰，iu(-2.30V出现的峰对应于Y的还 1.0 0.0 -1.0 -2.0 -3.0 -4.0 EIV 原:另外，f13Th环伏女图可以发现，这一还原 WlIYCI3-COC12-DMSOM液MEFC伏}M WG 过程为一完全不可逆过程17I