绿色镀膜技术发展现状与趋势研究.pdfVIP

18 2008年中国机械工程学会年会暨甘肃省学术年会文集 绿色镀膜技术发展现状与趋势 范多旺 国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心甘肃730070 摘要：随着世界各国对环境保护的重视，环保法令日趋严格。社会经济的发展向传统高消耗、重污染的电镀行业提出了新的 要求，而电镀行业是一个基础行业，涉及面广，不能被直接取缔，因此需要对其进行技术的升级换代。由兰州交通大学科技 人员首先提出的绿色镀膜技术是表面工程领域的新技术，能够替代或者部分替代传统的化学电镀技术，能够解决可持续发展 与环境友好的矛盾。本文简述了绿色镀膜技术的概念及特点，同时就目前绿色镀膜技术的发展现状做了简要的介绍．并就绿 色镀膜技术的未来发展趋势做了扼要的展望。 关键词：绿色镀膜现状趋势 1绿色镀膜技术 绿色镀膜概念是由兰州交通大学科技人员在国内外首先提出的表面工程领域的新技术概念，就是采用 真空复合镀膜集成技术替代或者部分替代传统的化学电镀技术，达到保护环境、降耗、减排、根除电镀三 废污染的目的，解决可持续发展与环境友好的矛盾，切实建设环境友好型和资源节约型社会。绿色镀膜技 术包括真空离子镀膜、磁控溅射镀膜、蒸发镀膜、离子注入、离子清洁等一系列单项技术及其多项复合技 术的集成，涉及真空、机械、控制、光电子、材料改性、表面工程、信息等光机电控一体化多学科领域。 1．1 常用真空镀膜技术… 真空蒸镀是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，常用电阻加热， 高频感应加热，电子束、激光束、离子束高能等轰击镀料，蒸发镀膜，真空蒸镀是PVD法中使用最早的 技术。 溅射镀是在充氩(时)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，氩(时)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子 在电场力的作用下，加速轰击阴极靶材，靶材被溅射出来而沉积到工件表面。根据辉光放电产生的方式不 同，分为直流溅射，射频溅射，磁控溅射。 电弧等离子体镀是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空室壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电， 阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“升华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧 等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高 能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 1．2绿色镀膜技术较传统电镀技术的优势 过去的镀膜多采用电镀法和化学镀法，不仅存在着厚度难以控制，膜层均匀性差，附着力差等问题， 三废污染特别严重，在人们环保意识逐步加强的今天，它的发展，已受到了各方面的制约。 绿色镀膜技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。与 传统的电镀法相比，真空镀膜技术具有很多的优点，如装饰效果好，金属质感强，成本低(约为传统电镀的 l乃～l趁)，易于操作等。特别在非金属物件的应用上，有着传统电镀无法比拟的优势。鉴于此，真空镀膜 已被广泛应用于各种颦料、陶瓷、玻璃、蜡、木材等制品的表面金属化。近年来功能材料薄膜和复合薄膜 也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料 等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。 随着高科技及新兴工业发展，真空镀膜技术出现了不少新的先进的亮点，如多弧离子镀与磁控溅射复合技 术，大型矩形长弧靶和溅射靶，非平衡磁控溅射靶，孪生靶技术，带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术，条状 纤维织物卷绕镀层技术等，镀膜设备向计算机全自动，大型化工业规模方向发展。 镕☆m☆2 2绿色镀膜技术的应用现状 绿色镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支．它己广泛地应用于光学、电了学、能源开艟，理化仪 器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜是最有发展前景的表面涂覆 应用技术．t=具有一系列其它工艺不可取代的优点：不受被镀元件的村料及形状的影响。镀膜的厚度可以 控制、一般为十分之几或百丹之几微米；可镀功能性表面镀层，无须像化学镀银那样进行补充抛光。 2．1光学工业的应用 光学玻璃或石英表面镀～居或几层午ld物质的薄膜后，印可成为高反射或增进膜或者作任何预期比例 的反射或透射材料．也可以作成