國家奈米元件實驗室分析技術整合委託申請表.doc

國家奈米元件實驗室奈米量測技術整合委託申請表 申請者姓名： 身份證字號：　　　　　　　　　　　 實驗室編號 所屬單位： 電話(必填)： 地　　址： 指導教授或主管親自簽章： 計劃名稱：□國科會 　　　　　　編號 ＮＳＣ （卡號：S ） 申請者勿填 　　　　　□其他 e-mail(必填)： 申請日期： 交件日期： （請操作員填寫） 預定完件日期：民國 年 月 日 研究領域或主題：請勾選 □奈米電子 □奈米光子 □奈米量測 □奈米製造及功能性材料 □高頻技術 □奈米生物電子與元件 □奈米結構與分析 □奈米系統模型與模擬 □其他 業界類別：□積體電路 □電腦週邊 □通訊□光電 □精密機械□生物技術(非業界無須勾選) ＊送件地點:□新竹□台南 ＊取件地點: □新竹□台南 一.分析內容及目的: 二.材料特性結構: 三.分析項目需求: 非破壞性分析: 1.□掃描探針顯微鏡系統(AFM) a.□大試片AFM/SCM 　　 b.□破片AFM c.□破片AFM/C-AFM 特殊條件或注意事項: 2.□X光薄膜繞射儀(XRD) 編號 材質 觀 察 項 目 特 殊 要 求 θ-2θ scan GIXRD 特殊條件或注意事項: 3.□化學分析電子儀(ESCA) a.□定性 b.□Chemical Shift - 待測元素: c.□定量 - 待測元素: 特殊條件或注意事項: 4.□薄膜測厚儀(α-step) 特殊條件或注意事項: 破壞性分析: 1.□熱場發射掃描式電子顯微鏡(TFSEM:Jeol6500F) a.□二次電子(SEI) 　 b.□反射電子(BEI) 特殊條件或注意事項: 2.□場發射掃描式電子顯微鏡(FESEM:Hitachi) a.□二次電子(SEI) 　 特殊條件或注意事項: 3.□二次離子質譜儀(SIMS) 　　　　a.□二次離子掃描 ?MASS RANGE AMU ?質量解析度M/△M＝ AMU b.□縱深分析　 ?分析元素種類（MAX.7 ELEMEENTS） ?分析縱深 μm(請描述分析至哪一層結構後結束) ?欲定量元素(依重要性排序) 特殊條件或注意事項: 4.□歐傑電子顯微鏡(SAM) a.□表面定性分析　　　　 　　　　　　 b.□縱深分析 待測元素: ; 待測深度：