极紫外光刻系统物镜光学元件的支撑与分析-中国光学.PDFVIP

第 3 卷 第 6 期 中国光学与应用光学 Vol. 3 No. 6 2010 年 12 月 Chinese Journal of Optics and Applied Optics Dec. 20 10 文章编号 1674-2915( 2010) 06-0598-07 极 紫 外 光 刻 系 统 物 镜 光 学 元 件 的 支撑 与 分 析 王 辉 ( 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春 130033) 摘要: 介绍了极紫外光刻系统物镜光学元件的支撑原理和支撑要求, 分析了符合运动学支撑要求的物镜支撑结构和面 形 检测用支撑结构; 针对支撑结构性能和支撑方案 中关键 问题进行了深入研究, 并提出了相应的解决方案 。最后建立 了支 撑结构的有限元模型, 并在此基础上进行了重力场 中的镜体变形分析和温度场作用下系 统的热变 形分析 。分析结果表 明, 检测用支撑与实 际用支撑两种结构在重力环境下支撑 出的元件面形基本相 同, 面形相差 0. 002 6 nm( RMS) ; 温控范 围为 0. 05 ℃时, 由机械结构热变形引起的镜体面形变化在 0. 001 nm( RMS) 量级。研究结果表 明, 运动学物镜元件支撑 结构能够满足极紫外光刻系统对于物镜机械支撑结构的要求 。 关 键 词: 极紫外光刻; 物镜; 运动学支撑; 有限元分析 中图分类号: TN305. 7; TH703 文献标识码: A Obj ective optical mounts and analysis for EUVL WANG Hui ( Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130033, China) Abstract: The principle and requirements of the optical mount of an Extreme Ultraviolet Lithography( EUVL) system are introduced, and the mount structures according with the kinematic coupling requirements used in an actual lithographic camera and used in an interferometer are analyzed. The mount performance and key prob- lems in mount precept are studied, and the corresponding solutions are also brought forward. Finally, Finite Element Analysis( FEA) models for optical mounts are built up, and the figure changes in the gravitation field and thermal field are analyzed, respectively. The results indicate that the figures on the mount structures used in the camera and used in the interferometer are the same basically in gravitational field, and the difference of the figure is 0. 002 6 nm( RMS) . When the temperature has a change of 0. 05 ℃, the figure change