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P-* 安徽鑫昊等离子显示器件有限公司 安徽鑫昊等离子显示器件有限公司 Anhui Xinhao Plasma Display Devices Co.,Ltd ITO电极图形加工工艺流程 (8) 图形检查 （AOI、Review Repair） (5) PR显影 (6) ITO 刻蚀 (7) PR剥膜 (1) 基板清洗 (2) 基板干燥 (4) 曝光 (3) PR胶涂敷 喷嘴 ITO电极 制作工艺 1、ITO电极制备 共通检查 AOI、IPCK-W、IPCK-M 主要内容 一、ITO显影 显影的基本知识及原理 显影设备 显影过程中易出现的问题及注意事项 二、ITO刻蚀 刻蚀的基本原理 刻蚀设备 刻蚀过程中注意事项 刻蚀过程中容易出现的问题及注意事项 三、ITO剥膜 剥膜的基本知识 剥膜设备 剥膜过程中容易出现的问题及注意事项 一、ITO显影 显影的基本知识及原理 显影设备 显影过程中易出现的问题及注意事项 显影的基本知识 ITO显影：使用显影液（Na2CO3）处理玻璃表面，将未经过光照的PR胶除去（因为使用的是负性胶），保留住光照过的部分，用化学方法使UV光未照射部分的PR胶溶于显影液中。 显影时发生的化学反应：  COOH COO-Na+ 2Na2CO3+ Resin 2NaHCO3+ Resin COOH COO-Na+ 显影的基本知识 ITO显影风刀：风刀的作用就是尽可能地把基板表面残留的水吹干。风刀与基板的边缘形成一定的角度，从风刀吹出的高压空气流与基板的表面也形成一定角度（约30度）的夹角，这样设置的目的是为了有效而又平稳地将基板表面的水吹 ，而又不至于使气流在基板表面的反射将基板表面的水又带到风刀的后面。风刀吹出的气流与基板的角度及风刀口离基板表面的距离是可调的。我们现在使用的为单风刀设置，风干效果不是很理想。一般采用双风刀设置，双风刀的设置是为了在吹干水的同时又防止气流把水珠卷到风刀后面，造成二次的污染。 显影设备构成 ITO显影设备组成： 1、Loading C/V 2、Turn-Table #1 3、Develop #1~#2 4、Rinse #1~#3 5、Final DI Shower 6、Air Knife 7、Turn-Table #2 8、UV Cure 9、Unloading C/V L/D T/T Develop #1~#2 Rinse #1~#3 Final DI Shower UL/D UV Cure T/T Air Knife 显影设备--喷头 各喷管上的Nozzle位置不同，以间隔交替形式设计；Nozzle的喷射压均匀，药液 以摇动形式进行喷洒，药液通过CCSS(Central Chemical Supply System)向原液Tank进行药液供应 影响显影质量的几个主要因素 在显影工艺中，对显影质量影响较大的几个因素有： 感光材料本身的特性 感光材料本身特性直接决定了它对显影条件的要求，不同的感光材料，其特性相差很大，如保护ITO电极的PR膜和感光ADD银浆料，它们之间就有很大的差异：PR膜为全有机的材料，透明度相对高，紫外光的透过性好，曝光时要求较小的曝光能量即可达到充分的交联，曝光过程中对紫外光的散射小，显影时，经过光照的部分和未经过光照的部分其在显影液中的溶解性差异大，因此显影时，具有较大的工艺馀度，显影所得的线条边缘也比较整齐。而感光银浆料由于浆料中含有较多的固体成分，对紫外光有较强的阻挡、散射作用，紫外光在浆料中的穿透能力小，因此曝光时要求较大的曝光能量，才能使浆料中的有机感光成分达到较好的交联，而显影时，显影馀度也相对要小很多，显影所得的线条边缘不是很整齐。 显影液的浓度 感光材料在显影液中的溶解性对显影液的浓度大小比较敏感，浓度大，则溶解速度快，反之就小。显影的时候，显影液浓度高，材料溶解速度快，效率高，但是显影的均匀一致性不好控制；浓度太高还会造成过显影。浓度低，则材料溶解速度慢，易控制，但效率低，浓度