恒电流电沉积ZnO薄膜及其光电性能研究-福州大学学报.PDFVIP

( ) 38 2 福州大学学报 自然科学版 Vol. 38 No. 2 第 卷第 期 2010 4 Journal of Fuzhou University (Natural Science) Apr. 2010 年 月 文章编号:1000 － 2243 (2010)02 － 0223 － 04 恒电流电沉积 ZnO 薄膜及其光电性能研究 1，2 1 ， 郭幸语 程树英 (1. ， 350108 ;2 . ， 350108) 福州大学物理与信息工程学院 福建福州 福州大学化学化工学院 福建福州 : ， ITO ZnO . X 、 摘要 采用恒电流电沉积的方法 在 导电玻璃上制备 薄膜 通过 射线衍射仪 扫描电子显微镜等手 ， ZnO ， pH . ， 段 对制备出的 薄膜进行表征 并研究了溶液的 值对薄膜的光学性质的影响 结果表明 电流密度为 0. 175mA ·cm － 2 、pH 4. 7 ， ZnO ， 、 ， 为 时 制备出的 薄膜具有纤锌矿结构 薄膜表面较均匀 致密 具有很好的附着 ， 80% ， 3. 37 eV. n . 力 在可见和近红外波段透过率约为 禁带宽度为 光电流测试表明薄膜的导电类型为 型 : ; ;ZnO ; ; 关键词 恒电流 电沉积 薄膜 光电性能 中图分类号:TB383 文献标识码:A Electrodeposition and photoelectricl properties of ZnO thin films GUO Xing － yu1，2 ，CHENG Shu － ying1 (1. College of Physics and Information Engineering ，Fuzhou University ，Fuzhou ，Fujian 350108 China ; 2 . College of Chemistry and Chemical Engineering ，Fuzhou University ，Fuzhou ，Fujian 350108 ，China) Abstract :ZnO thin films were electrodeposited on ITO － coated glasses successfully. The ZnO films were characterized by X － ray diffraction and scanning electron microscopy analysis. The