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b2011有机框图与合成专题公开课
有机推断与合成专题; 考情深度解读;还原;例1、已知
(注:R、R′为烃基)。A为有机合成中间体,在一定条件下发生消去反应,可能得到两种互为同分异构体的产物,其中的一种B可用于制取合成树脂、染料等多种化工产品。A能发生如下图所示的变化。;(2)A的同分异构体中具有酸性的分子有 种,能发生水解反应的有 种。
(3) C→D的反应类型是 ,E→F的反应类型是 。 a.氧化反应 b.还原反应c.加成反应 d.取代反应
(4) 写出化学方程式:A→B 。
(5)写出E生成高聚物的化学方程式: 。
(6)C的同分异构体C1与C有相同官能团,
两分子C1脱去两分子水形成含有六元
环的C2,写出C2的结构简式: 。;(2)能使酸性KMnO4溶液褪色的物质可能含有“ ”
“—C C—”“—CHO”或酚类物质。;(6)能水解的有机物中可能含有酯基 、卤代烃、肽键
;(2)由消去反应的产物可确定“—OH”或“—X”的位置。
(3)由取代产物的种数可确定碳链结构。
(4)由加氢后碳架结构可以确定 或—C C—
的位置。;探究点二 有机框图推断中官能团的转化; (2) 属于取代反应的有__________(填数字序号) 。
(3) 1molBAD最多可与含_____molNaOH的溶液完全反应
(4) 写出方程式:反应④
______________________________________
B+G→H; 1. 引入官能团
(1)引入卤原子 ;;(3)引入双键;
2. 从分子中消除官能团的方法
(1)经加成反应消除不饱和键。
(2)经取代、消去、酯化、氧化等反应消除—OH。
(3)经加成或氧化反应消除—CHO。
(4)经水解反应消除酯基。; 试分析图示关系,写出A、B、C、D四种有机物质的结构简式:
A ;B ;
C ;D 。; 在解答有机框图推断题时,常常会出现“连续氧化”,又称“二次氧化”问题,如:;;;(2)写出E和J的物质的结构简式:E: J: 。
(3)写出下列反应方程式:
D→E:
G→H: ; 有机反应中常见的信息反应有:
1. 与HCN的加成反应
R—CH=CH2+HCN RCH2CH2CN RCH2CH2COOH;;;;巩固练习: 一种用于治疗高血脂的新药灭脂灵是按如下路线合成的: ;①②⑤
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