- 1、本文档共52页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
电沉积的基本原理 9. 复合电沉积机理 复合电沉积又称为分散电沉积,它是将不溶性的固体微粒(如氧 化物、碳化物、金属粉末等)加入到电镀液中,使其与溶液中金 属离子复合共沉积 微粒与金属共沉积可以分为以下三个步骤: (1) 悬浮于镀液中的微粒,由本体溶液向阴极表面附近输送 (2) 微粒粘附于电极上 (3) 微粒被阴极析出的基质金属嵌入 电沉积的基本原理 10. 化学镀 化学镀是不外加电源,在金属表面的催化作用下经控制化学 还原法进行的金属沉积过程 化学镀过程的实质是氧化还原反应,在这一过程中,虽然无 外加电源提供金属离子还原所需要的电子,但仍有电子的转 移 金属还原所需的电子,是依靠溶液中的化学反应来提供,是 靠化学反应物之一的还原剂来提供 电沉积的基本原理 能够用化学镀沉积的金属有Ni、Cu、Co、Ag、Pd、Pt等以 及相应的合金。目前应用最多的是化学镀镍和化学镀铜 化学镀有以下优点: (1) 可在复杂的镀件表面形成均匀的镀层 (2) 镀层的孔隙率低 (3) 可直接在塑料、陶瓷、玻璃等非导体上进行沉积镀膜 (4) 镀层具有特殊的物理和化学性质 (5) 不需要电源,没有导电电极 电沉积的基本原理 化学镀镍是利用镍盐溶液和钴盐溶液,在强还原剂次磷酸盐 的作用下,使镍离子和钴离子还原成金属镍和钴,同时次磷 酸盐分解析出磷,在具有自催化表面的基体上,获得镍磷合 金或镍钴磷的合金 H2PO2- + H2O HPO3- + H+ + 2H Ni2+ + 2H Ni + 2H+ 2H H2 H2PO2- + H+ H2O + OH- + P Ni2+ + H2PO2- + H2O HPO3- + 3H+ +Ni 第五章 溶液镀膜法 第二节 阳极反应沉积法 铝、钽、钛、铌等阀金属或合金,在适当的电极液中作阳极并 加上一定的直流电压时,由于电化学反应在阳极金属表面上形 成氧化物薄膜,这个过程称为阳极氧化 第五章 溶液镀膜法 阳极氧化分类: 恒压阳极氧化和恒流阳极氧化 钛及钛合金是一种质轻、刚度大、硬度低、耐蚀性强的特殊金属材料, 具有许多优良性能, 在国防尖端科技领域和民用工业方面均广泛使用。但尽管钛及钛合金在许多独立的环境中具有极强的抗蚀性能, 但在与其它金属接触共存时, 会产生危害性很大的接触腐蚀。虽然钛材在空气中产生的自然氧化膜具有一定的抗蚀性, 但其耐磨、硬度、厚度等各方面的综合性能都不能达到实际应用需要 第五章 溶液镀膜法 除油工艺条件如下: 磷酸钠, g/L 30~ 70 碳酸钠, g/L 20~ 25 氢氧化钠, g/L 5~ 15 水玻璃, g/L 10~ 20 T °C 70~ 90 磷酸(d= 1. 7) , g/L 17~ 34 硫酸(d= 1. 8) , g/L 368~ 386 T , °C 0~ 10 电压,V 80~ 90 DA ,A / dm2 5~ 10 脉冲频率, 脉冲?分120~ 40 第五章 溶液镀膜法 利用阳极氧化法制备的T2O5 和Al2O3等介质薄膜已在电子工业 中得到了应用 Ti及Ti合金等生物医用材料已在牙科中获得了应用 第五章 溶液镀膜法 第三节 微弧氧化沉积法 一、微弧氧化 1. 微弧氧化的概念 它是将Al、Ti、Mg、Zr、Ta、Nb等金属及其合金(阀金属)置 于电解液中,利用电化学方法,在该材料表面微孔中产生火花 放电斑点,在热化学、等离子体化学和电化学共同作用下,生 成陶瓷膜层的阳极氧化方法 它阳极氧化基础上发展起来的,但它在机理上,工艺上以及所 生成的陶瓷膜性能上与阳极氧化相比存在着许多不同之处 微弧氧化沉积法 Air Electrolyte DC power supply 220 V Sample Anode Cathode H2O H2O 图2-1 微弧氧化装置的图示 Fig. 2-1 Schematic representation of microarc oxidation setup 微弧氧化沉积法 2. 微弧氧化技术发展概况 与电解相联系的火花放电现象是在一个多世纪以前由Sluginov 首先发现的 在三十年代由Günterschulze和Betz进行了详细的研究 七十年代由Markov和Coworkers研究和发展了在弧放电处理的条件下,在铝阳极表面沉积氧化物的技术 八十年代,俄罗斯和德国的研究者更为详细的研究了在各种金属的表面通过表面处理沉积氧化物的可能性,并被应用于工业生产中 但只有当McNiell和Gruss用火花放电处理在含有铌的溶液中 在镉阳极沉积铌酸镉时,实际的优点首次被开发出来 微弧氧化沉积法 3. 微弧氧化过程概述 将Ti、Al
文档评论(0)